ICS25.220.40 CCSH01 团 体 标 准 T/CI512—2024 硅基厚金属膜电镀工艺技术规范 Technicalspecificationsforcriterionofthesilicon-basedthickmetalfilm electroplatingprocess 2024-09-18发布 2024-09-18实施 中国国际科技促进会发布 中国标准出版社出版 全国团体标准信息平台 全国团体标准信息平台 目 次 前言 Ⅲ ………………………………………………………………………………………………………… 1 范围 1 ……………………………………………………………………………………………………… 2 规范性引用文件 1 ………………………………………………………………………………………… 3 术语和定义 1 ……………………………………………………………………………………………… 4 缩略语 2 …………………………………………………………………………………………………… 5 工艺流程 2 ………………………………………………………………………………………………… 5.1 硅片清洗 2 …………………………………………………………………………………………… 5.2 第一层绝缘层沉积 2 ………………………………………………………………………………… 5.3 第一层金属层沉积 3 ………………………………………………………………………………… 5.4 第一层厚金属膜光刻 3 ……………………………………………………………………………… 5.5 第一层厚金属膜电镀 3 ……………………………………………………………………………… 5.6 去胶和湿法腐蚀 4 …………………………………………………………………………………… 5.7 第二层绝缘层沉积 4 ………………………………………………………………………………… 5.8 两层厚金属膜间的连接层光刻 4 …………………………………………………………………… 5.9 绝缘层刻蚀 5 ………………………………………………………………………………………… 5.10 去胶 5 ………………………………………………………………………………………………… 5.11 第二层金属层沉积 6 ………………………………………………………………………………… 5.12 第二层厚金属膜光刻 6 ……………………………………………………………………………… 5.13 第二层厚金属膜电镀 6 ……………………………………………………………………………… 5.14 去胶和湿法腐蚀 7 …………………………………………………………………………………… 6 工艺加工能力 7 …………………………………………………………………………………………… 6.1 工艺能力要求 7 ……………………………………………………………………………………… 6.2 工艺稳定性要求 8 …………………………………………………………………………………… 7 工艺保障条件要求 8 ……………………………………………………………………………………… 7.1 人员要求 8 …………………………………………………………………………………………… 7.2 环境要求 8 …………………………………………………………………………………………… 8 原材料及辅助材料要求 8 ………………………………………………………………………………… 9 安全与环境操作要求 9 …………………………………………………………………………………… 9.1 安全 9 ………………………………………………………………………………………………… 9.2 化学试剂 9 …………………………………………………………………………………………… 9.3 排放 9 ………………………………………………………………………………………………… 10 检验 10 …………………………………………………………………………………………………… 10.1 目的 10 ……………………………………………………………………………………………… 10.2 关键工艺检验 10 …………………………………………………………………………………… 10.3 最终检验 11 ………………………………………………………………………………………… ⅠT/CI512—2024 全国团体标准信息平台 全国团体标准信息平台