(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222222692.7 (22)申请日 2022.08.23 (73)专利权人 上海奥博生物医药股份有限公司 地址 200000 上海市浦东 新区中国 （上海） 自由贸易试验区蔡伦路538号1幢304 室 (72)发明人 顾虹　黄鲁宁　安建国　陶安平　 陈茜　 (74)专利代理 机构 北京众泽信达知识产权代理 事务所(普通 合伙) 11701 专利代理师 吕昕炜 (51)Int.Cl. B01J 19/18(2006.01) B01F 27/90(2022.01) B01F 35/12(2022.01) (54)实用新型名称 一种具有自清理结构的塔式反应 器 (57)摘要 本实用新型属于 反应器技术领域， 尤其是一 种具有自清理结构的塔式反应器， 现提出如下方 案， 包括器体和设置在器体顶部的的清理机构， 本实用新型通过设置清理刮片， 在清理机构中， 当需要对器体内壁进行清理时， 操作人员可以先 打开清理口， 并通过打开第一电动推杆通过清理 刮片沿器体内壁进行往复旋转运动， 对器体内壁 的杂质进行清理操作， 第一电动推杆的推动带动 第一滑块 沿第一固定槽的内壁滑动， 第一滑块的 滑动通过第一限位槽的作用带动摆动杆的运动， 摆动杆的运动带动与转动轴固定连接的清理刮 片沿器体的内壁进行往复旋转运行， 来起到对器 体内壁进行有效清理的作用， 以实现对提高器体 内壁清理灵活性的控制操作。 权利要求书1页 说明书4页 附图4页 CN 217856177 U 2022.11.22 CN 217856177 U 1.一种具有自清理结构的塔式反应器， 包括器体(1)和设置在器体(1)顶部的清理机 构， 其特征在于： 所述清理机构包括滑动组件和旋转组件； 所述滑动组件包括第一滑块(6)、 第一电动推杆(7)和第一固定槽(8)， 所述器体(1)的 顶部设置有器盖(2)， 所述器盖(2)的外壁固定连接有控制箱(5)， 所述控制箱(5)的内壁滑 动连接有第一滑 块(6)， 所述第一滑 块(6)的一端固定连接有第一电动推杆(7)， 所述控制箱 (5)的内壁与第一滑块(6)的连接 部位开设有第一固定 槽(8)； 所述旋转组件包括摆动杆(9)、 转动轴(11)和清理刮片(12)， 所述第一滑块(6)的外壁 滑动连接有与控制箱(5)内壁旋转连接的摆动杆(9)， 所述摆动杆(9)的外壁与第一滑 块(6) 的连接部位开设有第一限位槽(10)， 所述摆动杆(9)的一端固定连接有转动轴(11)， 所述转 动轴(11)的一端固定连接有与器 体(1)内壁相贴合的清理刮片(12)。 2.根据权利要求1所述的一种具有自清理结构的塔式反应器， 其特征在于： 所述器体 (1)与器盖(2)的连接部位设置有密封圈(3)， 所述器盖(2)的顶部开设有输入口(4)， 所述器 盖(2)的外壁固定连接有位于控制箱(5)一侧的调节箱(13)， 所述调节箱(13)的内壁滑动连 接有第二滑块(14)， 所述第二滑块(14)的一端固定连接有第二电动推杆(15)， 所述调节箱 (13)的内壁与第二滑 块(14)的连接部位开设有第二固定槽(22)， 所述第二滑 块(14)的外壁 滑动连接有与调节箱(13)内壁旋转连接的旋转槽杆(16)， 所述旋转槽杆(16)的一端旋转连 接有与调节箱(13)内壁滑动连接有滑动杆(17)， 所述调节箱(13)的内壁与滑动杆(17)的连 接部位开设有第二限位槽(18)， 所述滑动杆(17)的外壁固定连接有驱动电机(19)， 所述驱 动电机(19)的输出端固定连接有位于器体(1)内部的搅拌杆(20)， 所述器盖(2)的外壁与搅 拌杆(20)的连接 部位开设有第三限位槽(21)， 所述器 体(1)的底端开设有清理口(23)。 3.根据权利要求1所述的一种具有自清理结构的塔式反应器， 其特征在于： 所述第 一滑 块(6)通过第一电动推杆(7)与第一固定 槽(8)之间构成滑动结构。 4.根据权利要求1所述的一种具有自清理结构的塔式反应器， 其特征在于： 所述摆动杆 (9)通过第一滑块(6)和第一限位槽(10)与清理刮片(12)之间构成转动结构。 5.根据权利要求1所述的一种具有自清理结构的塔式反应器， 其特征在于： 所述清理刮 片(12)通过转动轴(1 1)与器体(1)之间构成清理结构。 6.根据权利要求2所述的一种具有自清理结构的塔式反应器， 其特征在于： 所述滑动杆 (17)通过第二滑块(14)和旋转槽杆(16)与第二限位槽(18)之间构成滑动结构。 7.根据权利要求2所述的一种具有自清理结构的塔式反应器， 其特征在于： 所述搅拌杆 (20)通过滑动杆(17)和第三限位槽(21)与器 体(1)之间构成调节结构。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217856177 U 2一种具有自清理 结构的塔式反 应器 技术领域 [0001]本实用新型 涉及反应 器技术领域， 尤其涉及一种具有自清理结构的塔式反应 器。 背景技术 [0002]塔式反应器是一种广泛应用于液体相也参与反应的中速、 慢速反应和放热量大的 反应的反应 器， 具有结构 简单， 容易清理， 操作稳定， 投资和维修费用低等优点。 [0003]但是， 现有的反应器在使用时出现无法有效提高对器体内壁杂质清理灵活性的问 题， 导致在需要对反应器内部进 行清理时， 由于操作的灵活性较差， 易影响反应器对后续材 料的反应操作， 以及现有的反应器在使用时出现无法有效提高对器体内部材料进 行充分搅 拌的问题， 导致在物体在反应器内部进行反应处理时， 由于存在对器体物料 的搅拌不够充 分的情况， 易使得反应器对物体的反应质量下降， 不能满足人们的需求， 为此需要一种具有 自清理结构的塔式反应 器。 实用新型内容 [0004]本实用新型提出的一种具有自清理结构的塔式反应器， 解决了现有技术中存在的 出现无法有效提高对器体内壁杂质清理灵活性和无法有效提高对器体内部材料进行充分 搅拌的问题。 [0005]为了实现上述目的， 本实用新型采用了如下技 术方案： [0006]一种具有自清理结构的塔式反应器， 包括器体和设置在器体顶部的的清理机构， 所述清理机构包括滑动组件和旋转组件； [0007]所述滑动组件包括第一滑块、 第一电动推杆和第一固定槽， 所述器体 的顶部设置 有器盖， 所述器盖的外壁固定连接有控制箱， 所述控制箱的内壁滑动连接有第一滑块， 所述 第一滑块的一端固定连接有第一电动推杆， 所述控制箱的内壁与第一滑块的连接部位开设 有第一固定 槽； [0008]所述旋转组件包括摆动杆、 转动轴和清理刮片， 所述第一滑块的外壁滑动连接有 与控制箱内壁旋转连接的摆动杆， 所述摆动杆的外壁与第一滑块的连接部位开设有第一限 位槽， 所述摆动杆的一端固定连接有转动轴， 所述转动轴的一端固定连接有与器体内壁相 贴合的清理刮片。 [0009]优选的， 所述器体与器盖 的连接部位设置有密封圈， 所述器盖 的顶部开设有输入 口， 所述器盖的外壁固定连接有位于控制箱一侧的调节箱， 所述调节箱的内壁滑动连接有 第二滑块， 所述第二滑块的一端固定连接有第二电动推杆， 所述调节箱的内壁与第二滑块 的连接部位开设有第二固定槽， 所述第二滑块的外壁滑动连接有与调节箱内壁旋转连接的 旋转槽杆， 所述旋转槽杆 的一端旋转连接有与调节箱内壁滑动连接有滑动杆， 所述调节箱 的内壁与滑动杆的连接部位开设有第二限位槽， 所述滑动杆的外壁固定连接有驱动电机， 所述驱动电机的输出端固定连接有位于器体内部的搅拌杆， 所述器盖的外壁与搅拌杆的连 接部位开设有第三限位槽， 所述器 体的底端开设有清理口。说　明　书 1/4 页 3 CN 217856177 U 3