(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221477901.6 (22)申请日 2022.06.14 (73)专利权人 上海禾赛科技有限公司 地址 201821 上海市嘉定区新 徕路468号园 区二号楼 (72)发明人 叶文炜　王吉　向少卿　 (74)专利代理 机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 专利代理师 吴敏 (51)Int.Cl. G01S 7/497(2006.01) G01S 7/48(2006.01) G01S 7/481(2006.01) H04N 5/225(2006.01) H04N 5/232(2006.01)G06T 3/40(2006.01) (ESM)同样的发明创造已同日申请发明 专利 (54)实用新型名称 激光雷达的检测系统 (57)摘要 本实用新型提供一种激光雷达的检测系统， 所述检测系统包括： 成像操作模块， 所述成像操 作模块适宜于对探测通道进行至少1次指纹成像 操作， 所述指纹成像操作适宜于使探测通道发射 的探测光束经成像组件进行成像； 指纹提取模 块， 所述指纹提取模块适宜于根据所述至少1次 指纹成像操作的成像结果， 获得所述探测通道的 光路指纹， 所述光路指纹适宜于表征所述探测光 束的光路特性。 所述检测系统能够获得所述探测 通道的光路指纹以表征所述探测光束的光路特 性， 从而能够快速、 安全地获得所述激光雷达的 探测通道的杂散光斑分布情况， 并获得杂散光斑 的空间角度分布以及对应角度下的光强， 对于激 光雷达鬼像的判断、 抑制以及消除有重要的作 用。 权利要求书2页 说明书12页 附图6页 CN 217639520 U 2022.10.21 CN 217639520 U 1.一种激光雷达的检测系统， 其特 征在于， 包括： 成像操作模块， 所述成像操作模块适宜于对探测通道进行至少1次指纹成像操作， 所述 指纹成像操作适宜 于使探测通道发射的探测光束经成像组件进行成像； 指纹提取模块， 所述指纹提取模块适宜于根据 所述至少1次指纹成像操作的成像结果， 获得所述探测通道的光路指纹， 所述 光路指纹适宜 于表征所述探测光束的光路特性。 2.如权利要求1所述的检测系统， 其特征在于， 所述光路指纹包括： 所述探测光束形成 的主光斑和杂散光斑分布。 3.如权利要求1所述的检测系统， 其特 征在于， 所述成像操作模块包括： 机械单元， 所述机 械单元包括： 转台， 至少所述激光雷达固定 于所述转台； 控制单元， 所述控制单元适宜于确定所述激光雷达和所述成像组件的相对位置； 所述 控制单元还适宜 于确定所述相对位置之后， 使所述探测通道发射探测光束； 图像单元， 所述图像单 元适宜于根据所述探测光束， 获得指纹图像。 4.如权利要求3所述的检测系统， 其特征在于， 所述指纹提取模块根据所述指纹图像， 获得所述探测通道的主光斑； 所述指纹提取模块根据所述指纹图像中每个像素与所述主光 斑的相对灰度值， 判断所述 光路指纹中的杂散光斑。 5.如权利要求3所述的检测系统， 其特征在于， 所述控制单元调整所述激光雷达的位姿 和所述成像组件的位姿中的至少一个以确定所述激光雷达和所述成像组件的相对位置 。 6.如权利要求3所述的检测系统， 其特征在于， 所述图像单元利用所述成像组件中的图 像传感器接收所述探测光束， 获得 所述指纹图像。 7.如权利要求3所述的检测系统， 其特征在于， 所述探测光束照射至参照物后， 所述成 像组件中的图像传感器获得被照射的参照物的图像作为所述指纹图像。 8.如权利要求7所述的检测系统， 其特征在于， 所述探测光束照射至所述参照物之后， 所述图像单元确定所述参照物上所述探测 光束的主光斑的位置并降低主光斑的位置的亮 度； 在图像传感器获得被照射的参照物的图像的过程中， 所述图像单元增大所述图像传感 器的曝光量。 9.如权利要求8所述的检测系统， 其特征在于， 所述图像单元在所述主光斑的位置设置 吸收结构或透射结构以降低主光斑的位置的亮度。 10.如权利要求1所述的检测系统， 其特征在于， 所述检测系统还包括： 范围估算模块， 所述范围估算模块 适宜于获得所述探测通道的光路指纹的分布范围； 所述成像操作模块根据所述探测通道的光路指纹的分布范围和所述成像组件的成像 范围， 执行所述至少1次指纹成像操作使所述成像组件的成像范围遍历所述探测通道的光 路指纹的分布范围。 11.如权利要求1所述的检测系统， 其特征在于， 所述成像操作模块对所述探测通道进 行多次指纹成像操作以获得多个指纹图像； 所述指纹提取模块对所述多个指纹图像进行图像拼接， 以获得所述探测通道的光路指 纹。 12.如权利要求1所述的检测系统， 其特 征在于， 所述激光雷达包括： 多个探测通道； 所述成像操作模块对多个探测通道进行多次指纹成像操作以获得多个光路指纹， 所述 多个光路指纹与所述多个探测通道一 一对应；权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 217639520 U 2所述指纹提取模块对所述多个光路指纹进行拼接， 获得所述激光雷达所有探测通道的 光路指纹。 13.如权利要求12所述的检测系统， 其特征在于， 还包括： 光机优化模块， 所述光机优化 模块适宜于基于所述激光雷达所有探测通道的光路指纹， 进 行结构特征优化以消除或削弱 所述探测光束中的杂散光束。 14.如权利要求13所述的检测系统， 其特征在于， 所述光机优化模块基于空间隔离的多 个探测通道的光路指纹， 判断杂散光 光路是否一 致， 并基于判断结果进行 结构特征优化； 所述光机优化模块基于空间部分重叠的多个探测通道的光路指纹， 融合所述多个探测 通道的光路指纹， 并根据融合后的光路指纹， 进行 结构特征优化。 15.如权利要求1所述的检测系统， 其特征在于， 所述成像组件包括： 成像光学元件和图 像传感器， 所述成像光学 元件和所述图像传感器沿所述探测光束的光路依次设置 。 16.如权利要求15所述的检测系统， 其特征在于， 所述成像光学元件包括： 长焦单透镜 和沿所述探测光束的光路位于所述长焦单透 镜下游的消光元件。 17.如权利要求16所述的检测系统， 其特征在于， 所述成像组件还包括： 小孔光阑， 所述 小孔光阑位于所述成像光学 元件和所述图像传感器之间。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 217639520 U 3