(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123356886.8 (22)申请日 2021.12.2 9 (73)专利权人 复拓科学仪器 （苏州） 有限公司 地址 215000 江苏省苏州市 常熟高新 技术 产业开发区贤士 路1号 (72)发明人 张俊飞　陈凡　陈小林　汪燕　 (74)专利代理 机构 北京众允专利代理有限公司 11803 专利代理师 王景禾 (51)Int.Cl. B05C 11/10(2006.01) B05C 11/08(2006.01) B05C 5/02(2006.01) (54)实用新型名称 一种循环利用的匀胶装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种循环利用的匀胶装 置， 其包括内部形成有收纳凹槽的集胶盘、 位于 所述集胶盘下方的旋转驱动件、 旋转设置在所述 收纳凹槽内且受所述旋转驱动件驱动进行旋转 运动的匀胶旋转盘、 位于所述匀胶旋转盘中心上 方的点胶针、 与所述点胶针连通的集胶桶， 所述 收纳凹槽的底部开设有回胶孔， 所述回胶孔与所 述集胶桶管道连通。 本实用新型能够自动回收被 甩出的多余胶水进行循环利用， 更加经济环保。 权利要求书1页 说明书3页 附图2页 CN 217289102 U 2022.08.26 CN 217289102 U 1.一种循环利用的匀胶装置， 其特征在于： 其包括内部形成有收纳凹槽的集胶盘、 位于 所述集胶盘下方的旋转驱动件、 旋转设置在所述收纳凹槽内且受所述旋转驱动件驱动进 行 旋转运动的匀胶旋转盘、 位于所述匀胶旋转盘中心上方的点胶针、 与所述点胶针连通的集 胶桶， 所述收纳凹槽的底部开设有回胶孔， 所述回胶孔与所述 集胶桶管道连通。 2.如权利要求1所述的循环利用的匀胶装置， 其特征在于： 所述集胶盘的顶部设置有开 口， 所述集胶盘的开口处设置有上小下 大的喇叭状结构。 3.如权利要求2所述的循环利用的匀胶装置， 其特征在于： 所述喇叭状结构的内壁表面 形成有45 °环形反射面， 所述匀胶旋转盘的设置高度位于所述45 °环形反射面的围绕空间 内。 4.如权利要求1所述的循环利用的匀胶装置， 其特征在于： 所述收纳凹槽的底部表面为 中间高四周低的斜坡面结构， 所述回胶孔设置在所述 斜坡面结构的最低区域。 5.如权利要求1所述的循环利用的匀胶装置， 其特征在于： 所述匀胶旋转盘上设置有若 干真空吸附孔道， 所述真空吸附孔道连通真空装置 。 6.如权利要求1所述的循环利用的匀胶装置， 其特征在于： 还包括机壳， 所述机壳上设 置有控制面板， 所述控制面板与所述旋转驱动件以及所述 点胶针电连接 。 7.如权利要求6所述的循环利用的匀胶装置， 其特征在于： 所述旋转驱动件、 所述集胶 桶均设置在所述机壳 内， 所述集胶盘采用下沉式结构内嵌在所述机壳的台面上。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217289102 U 2一种循环利用的匀胶装 置 【技术领域】 [0001]本实用新型属于匀胶设备技 术领域， 具体的说涉及一种循环利用的匀胶装置 。 【背景技术】 [0002]匀胶机是在高速旋转的基片上， 滴注各类胶液， 利用离心力使滴在基片上的胶液 均匀地涂覆在基片上 的设备， 膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。 广泛应用于半 导体工艺、 M EMS工艺、 薄膜工艺、 芯片堆叠、 传感器工艺 等。 [0003]在匀胶过程中为保证产品圆片上能全部覆盖胶层， 一般在圆片中心滴放比较多的 胶水。 经过旋转离心后， 真正留在圆片上的只有很少一部 分， 大部分都被甩出去的作为废弃 物， 浪费大。 [0004]现有技术中专利号为CN202022291277.8公开了一种 密封式旋转匀胶设备， 在承载 基片的载物盘上方设置同步旋转的盖板， 形成密封结构， 虽然解决了防止胶水向外飞溅 的 问题， 但是还是会造成较多的浪费。 [0005]因此， 有必要提供一种新的循环利用的匀胶装置来 解决上述 技术问题。 【实用新型内容】 [0006]本实用新型的主要目的在于提供一种循环利用的匀胶装置， 能够自动回收被甩出 的多余胶水进行循环利用， 更加经济环保。 [0007]本实用新型通过如下技术方案实现上述目的： 一种循环利用的匀胶装置， 其包括 内部形成有收纳凹槽的集胶盘、 位于所述集胶盘下方的旋转驱动件、 旋转设置在所述收纳 凹槽内且受所述旋转驱动件驱动进行旋转运动的匀胶旋转盘、 位于所述匀胶旋转盘中心上 方的点胶针、 与所述点胶针连通的集胶桶， 所述收纳凹槽的底部开设有回胶孔， 所述回胶孔 与所述集胶桶管道连通。 [0008]进一步的， 所述集胶盘的顶部设置有开口， 所述集胶盘 的开口处设置有上小下大 的喇叭状结构。 [0009]进一步的， 所述喇叭状结构的内壁表面形成有45 °环形反射面， 所述匀胶旋转盘的 设置高度位于所述 45°环形反射 面的围绕空间内。 [0010]进一步的， 所述收纳凹槽 的底部表面为中间高四周 低的斜坡面结构， 所述回胶孔 设置在所述 斜坡面结构的最低区域。 [0011]进一步的， 所述匀胶旋转盘上设置有若干真空吸附孔道， 所述真空吸附孔道连通 真空装置 。 [0012]进一步的， 还包括机壳， 所述机壳上设置有控制面板， 所述控制面板与所述旋转驱 动件以及所述 点胶针电连接 。 [0013]进一步的， 所述旋转驱动件、 所述集胶桶均设置在所述机壳内， 所述集胶盘采用下 沉式结构内嵌在所述机壳的台面上。 [0014]与现有技术相比， 本实用新型一种循环利用的匀胶装置 的有益效果在于： 实现了说　明　书 1/3 页 3 CN 217289102 U 3