(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202110833134.1 (22)申请日 2021.07.2 2 (66)本国优先权数据 202010710201.6 2020.07.2 2 CN (71)申请人 上海希迈医药 科技有限公司 地址 201203 上海市浦东 新区中国 （上海） 自由贸易试验区张衡路19 99号9幢3层 申请人 上海创诺医药集团有限公司 (72)发明人 彭欢　张凤杰　张良　 (74)专利代理 机构 上海一平知识产权代理有限 公司 3126 6 代理人 徐迅　马莉华 (51)Int.Cl. C07D 401/14(2006.01) A61K 31/506(2006.01)A61P 35/00(2006.01) (54)发明名称 一种环己烷甲酰胺的新晶型及其制备方法 (57)摘要 本发明提供了(cis) ‑N‑((S)‑1‑(6‑(4‑氟‑ 1H‑吡唑‑1‑基)吡啶‑3‑基)乙基) ‑1‑甲氧基‑4‑ (4‑甲基‑6‑((5‑甲基‑1H‑吡唑‑3‑基)氨基)嘧 啶‑2‑基)环己烷甲酰胺(式(I)化合物)的新晶型 及其制备方法。 权利要求书3页 说明书19页 附图18页 CN 113968843 A 2022.01.25 CN 113968843 A 1.一种如式(I)所示的化 合物的晶型： 2.如权利 要求1所述的晶型， 其特征在于， 所述晶型选自下组： 晶型CM ‑I、 晶型CM ‑II、 晶 型CM‑III； 其中， 所述晶型CM ‑I的XRPD图包括3个或3个以上选自下组的2θ值： 4.9 ° ±0.2°、 9.7° ± 0.2°、 12.7° ±0.2°、 13.6° ±0.2°； 所述晶型CM ‑II的XRPD包括3个或3个以上选自下组的2θ值： 9.0 ° ±0.2°、 18.1° ±0.2°、 20.8° ±0.2°、 25.1° ±0.2°； 所述晶型CM ‑III的XRPD图包括3个或3个以上选自下组的2θ值： 5.6 ° ±0.2°、 8.5° ± 0.2°、 10.8° ±0.2°、 14.3° ±0.2°。 3.如权利要求2所述的晶型， 其特征在于， 所述晶型CM ‑I具有选自下组的一个或多个特 征： 1)所述晶型CM ‑I的XRPD图包括6个或6个以上选自下组的2θ值： 4.9 ° ±0.2°、 6.8° ± 0.2°、 9.7° ±0.2°、 12.7° ±0.2°、 13.6° ±0.2°、 13.9° ±0.2°、 14.8° ±0.2°、 16.0° ±0.2°、 17.1° ±0.2°、 18.5° ±0.2°、 19.2° ±0.2°、 19.4° ±0.2°、 19.7° ±0.2°、 20.5° ±0.2°、 21.6° ±0.2°、 22.9° ±0.2°、 23.5° ±0.2°、 23.7° ±0.2°、 24.5° ±0.2°、 25.5° ±0.2°、 26.0° ± 0.2°、 27.8° ±0.2°、 28.4° ±0.2°、 29.3° ±0.2°、 29.7° ±0.2°； 2)所述晶型C M‑I具有基本如图1所示的XRP D图； 3)所述晶型C M‑I具有基本如图2所示的TGA图； 4)所述晶型C M‑I具有基本如图3所示的D SC图； 5)所述晶型C M‑I具有基本如图4所示的1H NMR图谱。 4.如权利要求2所述的晶型， 其特征在于， 所述晶型CM ‑II具有选自下组的一个或多个 特征： 1)所述晶型CM ‑II的XRPD图包括6个或6个以上选自下组的2θ值： 3.9 ° ±0.2°、 6.9° ± 0.2°、 9.0° ±0.2°、 10.3° ±0.2°、 11.1° ±0.2°、 11.3° ±0.2°、 12.5° ±0.2°、 13.5° ±0.2°、 13.9° ±0.2°、 15.1° ±0.2°、 15.5° ±0.2°、 16.5° ±0.2°、 16.9° ±0.2°、 17.5° ±0.2°、 18.1° ±0.2°、 20.0° ±0.2°、 20.8° ±0.2°、 21.4° ±0.2°、 22.7° ±0.2°、 24.3° ±0.2°、 25.1° ± 0.2°、 26.0° ±0.2°、 29.6° ±0.2°、 30.6° ±0.2°、 32.0° ±0.2°； 2)所述晶型C M‑II具有基本如图9所示的XRP D图； 3)所述晶型C M‑II具有基本如图10所示的TGA图；权　利　要　求　书 1/3 页 2 CN 113968843 A 24)所述晶型C M‑II具有基本如图1 1所示的D SC图； 5)所述晶型C M‑II具有基本如图12所示的1H NMR图谱。 5.如权利 要求2所述的晶型， 其特征在于， 所述晶型CM ‑III具有选自下组的一个或多个 特征： 1)所述晶型CM ‑III的XRPD图包括6个或6个以上选 自下组的2θ值： 5.6 ° ±0.2°、 8.5° ± 0.2°、 10.8° ±0.2°、 11.3° ±0.2°、 13.3° ±0.2°、 14.3° ±0.2°、 15.3° ±0.2°、 15.7° ±0.2°、 17.1° ±0.2°、 18.0° ±0.2°、 20.0° ±0.2°、 21.9° ±0.2°、 23.0° ±0.2°、 24.3° ±0.2°、 25.8° ±0.2°； 2)所述晶型C M‑III具有基本如图17 所示的XRP D图； 3)所述晶型C M‑III具有基本如图18所示的TGA图； 4)所述晶型C M‑III具有基本如图19所示的D SC图； 5)所述晶型C M‑III具有基本如图20所示的1H NMR图谱。 6.如权利 要求1所述的晶型， 其特征在于， 所述晶型选自下组： 晶型CM ‑IV、 晶型CM ‑V、 晶 型CM‑VI、 晶型C M‑VII、 晶型CM‑VIII； 其中， 所述晶型CM ‑IV的XRPD图包括3个或3个以上选自下组的2θ值： 5.7 ° ±0.2°、 9.2° ±0.2°、 10.5° ±0.2°、 19.4° ±0.2°； 所述晶型CM ‑V的XRPD图包括3个或3个以上选自下组的2θ值： 5.9 ° ±0.2°、 8.9° ±0.2°、 10.3° ±0.2°、 17.3° ±0.2°； 所述晶型CM ‑VI的XRPD图包括3个或3个以上选自下组的2θ值： 5.4 ° ±0.2°、 8.0° ± 0.2°、 10.7° ±0.2°、 16.0° ±0.2°； 所述晶型CM ‑VII， 其XRPD图包括3个或3个以上选自下组的2θ值： 2.9 ° ±0.2°、 6.0° ± 0.2°、 8.0° ±0.2°、 9.8° ±0.2°； 所述晶型CM ‑VIII的XRPD图包括3个或3个以上选 自下组的2θ值： 8.4 ° ±0.2°、 10.9° ± 0.2°、 13.5° ±0.2°、 17.5° ±0.2°。 7.如权利要求6所述的 晶型， 其特 征在于， 所述晶型 具有选自下组的一个或多个特 征： 1)所述晶型CM ‑IV的XRPD图包括6个或6个以上选自下组的2θ值5.7 ° ±0.2°、 9.2° ± 0.2°、 10.5° ±0.2°、 14.5° ±0.2°、 17.8° ±0.2°、 19.4° ±0.2°、 22.2° ±0.2°、 24.6° ±0.2°、 27.2° ±0.2°、 28.0° ±0.2°； 2)所述晶型C M‑IV具有基本如图25所示的XRP D图； 3)所述晶型CM ‑V的XRPD图包括6个或6个以上选自下组的2θ值： 5.9 ° ±0.2°、 8.9° ± 0.2°、 10.3° ±0.2°、 17.3° ±0.2°； 4)所述晶型C M‑V具有基本如图26所示的XRP D图； 5)所述晶型CM ‑VI的XRPD图包括6个或6个以上选自下组的2θ值： 2θ值为5.4 ° ±0.2°、 5.8° ±0.2°、 8.0° ±0.2°、 8.7° ±0.2°、 10.7° ±0.2°、 11.7° ±0.2°、 13.3° ±0.2°、 14.6° ± 0.2°、 16.0° ±0.2°、 18.7° ±0.2°、 20.4° ±0.2°、 21.4° ±0.2°、 24.0° ±0.2°、 26.4° ±0.2°、 27.6° ±0.2°、 29.5° ±0.2°、 31.5° ±0.2°； 6)所述晶型C M‑VI具有基本如图27 所示的XRP D图； 7)所述晶型CM ‑VII的XRPD图包括6个或6个以上选 自下组的2θ值： 2.9 ° ±0.2°、 6.0° ± 0.2°、 8.0° ±0.2°、 9.8° ±0.2°、 11.8° ±0.2°、 12.5° ±0.2°、 14.2° ±0.2°、 15.2° ±0.2°、权　利　要　求　书 2/3 页 3 CN 113968843 A 3