(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221911262.X (22)申请日 2022.07.21 (73)专利权人 润新微电子 （大连） 有限公司 地址 116000 辽宁省大连市高新 技术产业 园区七贤岭信达街57号工业设计产业 园7号楼 (72)发明人 姜仁波　程万希　梁辉南　李强　 (74)专利代理 机构 苏州创元专利商标事务所有 限公司 3210 3 专利代理师 赖婉婷 (51)Int.Cl. B01D 46/56(2022.01) B01D 46/69(2022.01) B01D 46/48(2006.01) B01D 46/88(2022.01) (54)实用新型名称 一种MOCVD尾气粉尘收集装置 (57)摘要 本实用新型涉及一种MOCVD尾气粉尘收集装 置， 包括粉尘过滤器， 粉尘过滤器包括依次设置 的冷却室、 过滤室和 洁净室， 冷却室和过滤室相 连通， 过滤室和洁净室彼此独立， 粉尘过滤器还 包括设置在过滤室内的第一滤芯， 尾气由进气接 口进入冷却室冷却 后， 然后经第一滤芯过滤进入 洁净室， 再排出洁净室， 该MOCVD尾气 粉尘收集装 置还包括具有氮气出口的氮气吹扫机构、 连接在 过滤室上的氮气出气管路及可拆卸连接在氮气 出气管路上的收集器， 当氮气吹扫机构吹出氮气 时， 过滤室内的至少部分粉尘和/或第一滤芯外 表面的至少部分粉尘在氮气气流的作用下， 进入 收集器内富集。 本实用新型能够 有效减少维护次 数， 增加MOCVD设备的运行时间， 提升生产效率。 权利要求书1页 说明书4页 附图3页 CN 217773620 U 2022.11.11 CN 217773620 U 1.一种MOCVD尾气粉尘收集装置， 包括粉尘过滤器， 所述粉尘过滤器包括依次设置的冷 却室、 过滤室和洁净室， 所述冷却室上连接有进气接口， 所述洁净室上连接有出气接口， 所 述冷却室和过滤室相连通， 所述过滤室和洁净室彼此独立， 所述粉尘过滤器还包括设置在 所述过滤室内的第一滤芯， 尾气由所述进气接口进入所述冷却室冷却后， 然后经所述第一 滤芯过滤进入所述洁净室， 再经所述出气接口排出所述洁净室， 其特征在于： 所述MOCVD尾 气粉尘收集装置还包括具有氮气出口的氮气吹扫机构、 连接在所述过滤室上的氮气出气管 路及可拆卸 连接在所述氮气出气管路上 的收集器， 当所述氮气吹扫机构吹出氮气时， 所述 过滤室内的至少部分粉尘和/或所述第一滤芯外表面的至少部分粉尘在氮气气流的作用 下， 进入所述收集器内富 集。 2.根据权利要求1所述的MOCVD尾气粉尘收集装置， 其特征在于： 所述氮气出口位于所 述过滤室内， 所述氮气出口朝向所述第一滤芯 设置。 3.根据权利 要求1或2所述的MOCVD尾气粉尘收集装置， 其特征在于： 所述氮气吹扫机构 包括氮气气源设备及氮气进气管路， 所述氮气进气管路包括与所述氮气气源设备相连的氮 气进气总管道及一端部 分别与所述氮气进气总管道相连的氮气进气分支管道， 所有所述氮 气进气分支管道的另一端部设置喷 嘴， 所有所述喷 嘴的喷口形成所述氮气出口。 4.根据权利要求3所述的MOCVD尾气粉尘收集装置， 其特征在于： 所述氮气进气总管道 上设置第一阀门。 5.根据权利要求1所述的MOCVD尾气粉尘收集装置， 其特征在于： 所述氮气出气管路上 且位于所述收集器的两侧分别设置有第二阀门。 6.根据权利要求5所述的MOCVD尾气粉尘收集装置， 其特征在于： 所述收集器包括可拆 卸连接在所述氮气出气管路上的外壳及设置在所述外壳内的粉尘过滤组件， 当所述外壳连 接在所述氮气出气管路上时， 所述外壳 内部可与所述氮气出气管路连通。 7.根据权利要求6所述的MOCVD尾气粉尘收集装置， 其特征在于： 所述粉尘过滤组件为 第二滤芯， 所述外壳内设有用于将所述外壳的内腔分隔成彼此独立的第一腔室和 第二腔室 的隔板， 所述第一腔室通过所述氮气出气管路与所述过滤室连通， 所述第二滤芯位于所述 第一腔室内且所述第二滤芯的一端部与所述隔板相连， 所述隔板上对应所述第二滤芯的位 置开设通 孔， 所述第二滤芯的内腔的一端通过 所述通孔与所述第二腔室连通、 另一端封闭。 8.根据权利要求7所述的MOCVD尾气粉尘收集装置， 其特征在于： 靠近所述第二腔室的 所述第二阀门设有过 滤网。 9.根据权利要求1所述的MOCVD尾气粉尘收集装置， 其特征在于： 所述第一滤芯设置多 个； 和/或， 所述进气接口上设置第三阀门， 所述出气接口上设置第四阀门。 10.根据权利要求1所述的MOCVD尾气粉尘收集装置， 其特征在于： 所述过滤室和洁净室 之间设置用于将所述过滤室和洁净室分隔开的隔板， 所述第一滤芯的一端部与所述隔板相 连， 所述隔板对应所述第一滤芯的位置开设通孔， 所述第一滤芯的内腔的一端通过所述通 孔与所述洁净室连通、 另一端封闭。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217773620 U 2一种MOCVD尾气粉尘收集装 置 技术领域 [0001]本实用新型属于MOCVD设备尾气处理技术领域， 具体涉及一种MOCVD尾气粉尘收集 装置。 背景技术 [0002]硅基氮化镓目前是比较热门的第三代半导体功率器件材料， 其主要采用德国金属 有机化合物化学气相沉积设备生产厂商爱思强(AIXTRON)生产的金属有机化合物 化学气相 沉积(MOCVD)系统进行异质外延生长， 该系统的核心工作是： 在特定的反应室， 特定压力和 温度条件下， 通入原材料和氮气或氢气在反应室中进行化学反应， 并在硅衬底上生长出需 要的氮化镓薄膜。 在反应室发生化学反应后会产生大量的粉尘并进入粉尘过滤器， 再 由主 泵抽出， 经 过废气过 滤设备完成净化， 净化后的气体才能进入大气中。 [0003]如图1所示， 现有的粉尘过滤器包括依次设置的冷却室1 ′、 过滤室2 ′及洁净室3 ′， 冷却室1′上连接有进气接口4 ′， 洁净室3 ′上连接有出气接口5 ′， 冷却室1 ′和过滤室2 ′相连 通， 过滤室2 ′和洁净室3 ′之间设置用于将二者隔开的隔板6 ′， 该粉尘过滤器还包括设置在 过滤室2′内且一端部与隔板6 ′相连的多个滤芯7 ′， 隔板6′上对应各个滤芯7 ′的位置分别开 设通孔， 各个滤芯7 ′的内腔的一端通过通孔与洁净室3 ′连通、 另一端封闭。 MOCVD系统的反 应室内产生的含粉尘的热气体经进气接口4 ′进入冷却室1 ′， 经冷却室1 ′内的水冷机构降 温， 然后进入过滤室2 ′， 经滤芯7 ′过滤后进入洁净室3 ′， 最后经出气接口5 ′流出粉尘过滤 器， 经主泵抽出， 再 经废气过 滤设备完成净化后排出 大气。 [0004]粉尘过滤器的维护周期是根据反应室的压力传感器与粉尘过滤器后安装的压力 传感器之间的差值大小(记为DP值)来确定。 实际使用过程中， 由于产生的粉尘较多， DP值会 比较快就达到需要更换的数值(通常DP值≥30 mbar时， 就需进行维护、 更换滤芯)， 导致 维护 次数多， 并且维护时需要将粉尘过滤器拆下来进 行维护， 更换其中的滤芯， 然后安装上新的 滤芯并进行相关验证， 而且更换滤芯后需要进行一次试产确认设备是否可以达到生产的状 态。 成本较高， 且过多的维护次数会降低大规模生产的机时及降低产品的良率， 还会导致 MOCVD设备的利用率较低。 发明内容 [0005]本实用新型所要解决的技术问题是针对现有的粉尘过滤器维护次数较多导致的 成本高、 MOCVD设备利用率低等问题， 而提供一种改进的MOCVD尾气粉尘收集装置 。 [0006]为解决以上技 术问题， 本实用新型采用如下技 术方案： [0007]一种MOCVD尾气粉尘收集装置， 包括粉尘过滤器， 所述粉尘过滤器包括依次设置的 冷却室、 过滤室和洁净室， 所述冷却室上连接有进气接口， 所述洁净室上连接有出气接口， 所述冷却室和过滤室相连通， 所述过滤室和洁净室彼此独立， 所述粉尘过滤器还包括设置 在所述过滤室内的第一滤芯， 尾气由所述进气接口进入所述冷却室冷却后， 然后经所述第 一滤芯过滤进入 所述洁净室， 再经所述出气 接口排出所述洁净室， 所述MOCVD尾气粉尘收集说　明　书 1/4 页 3 CN 217773620 U 3