(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221841054.7 (22)申请日 2022.07.18 (73)专利权人 盛吉盛半导体技 术 （上海） 有限公 司 地址 201304 上海市浦东 新区中国 （上海） 自由贸易试验区临港新片区丽正路 1628号4幢1-2层 (72)发明人 童洲　黄中山　 (74)专利代理 机构 上海骁象知识产权代理有限 公司 31315 专利代理师 赵俊寅 (51)Int.Cl. B08B 5/02(2006.01) B08B 5/04(2006.01) B08B 13/00(2006.01)(ESM)同样的发明创造已同日申请发明 专利 (54)实用新型名称 一种薄膜沉积设备腔体清洁装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种薄膜沉积设备腔体 清洁装置， 属于产品腔体清洁技术领域， 解决了 现有的产品腔体清洁存在需手动清洁和清洁效 果差的问题， 其技术要点是： 工作台的一侧开设 有配合槽， 配合槽上设置有吹风机构和抽风机 构， 配合槽的外侧设置有夹持机构， 第一支撑柱 与第二支撑柱的连接处设置有升降驱动机构， 第 二支撑柱的底部设置有万向轮， 吹风机构便于将 待清洁产品内的颗粒杂质吹起， 抽风组便于将吹 起的颗粒杂质抽取至收集组内收集， 夹持机构便 于对待清洁产品进行夹持固定， 升降驱动机构便 于驱动工作台根据待清洁产品的高度下 降调节 至合适的位置进行相应的配合连接， 保证了抽吸 操作的稳定进行， 具有无需手动清洁和清洁效果 好的优点。 权利要求书1页 说明书4页 附图4页 CN 217857756 U 2022.11.22 CN 217857756 U 1.一种薄膜沉积设备腔体清洁装置， 位于待清洁产品(1)的外侧， 其特征在于， 包括工 作台(2)， 所述工作台(2)的一侧开设有便于配合连接待清洁产品(1)的配合槽(6)， 所述配 合槽(6)上设置有吹风机构和抽风机构， 所述抽风机构 机构包括抽风组和收集组， 所述配合 槽(6)的外侧设置有便于夹持固定待清洁产品(1)的夹持机构， 所述夹持机构包括夹持块 (18)、 滑杆(20)、 固定板(21)、 弹簧(22)和拉板(23)， 所述夹持块(18)通过滑杆(20)滑动连 接于固定板(21)上， 所述固定板(21)固定连接于工作台(2)上， 所述夹持块(18)与固定板 (21)的连接处设置有弹簧(22)， 所述滑杆(20)的一端固定连接有拉板(23)， 所述夹持块 (18)的内侧设置有便于防护的弹性密封垫(19)， 所述工作台(2)的底部设置有若干便于支 撑的第一支撑柱(24)和第二支撑柱(25)， 所述第一支撑柱(24)与第二支撑柱(25)的连接处 设置有升降驱动机构， 所述第二支撑柱(25)的底部设置有便 于移动的万向轮(26)。 2.根据权利要求1所述的薄膜沉积设备腔体清洁装置， 其特征在于， 所述吹风机构包括 吹风罩(5)、 储气罐(15)和气压泵(17)， 所述 吹风罩(5)朝向待清洁产品(1)的内部设置， 所 述吹风罩(5)通过第三管道(14)连通有储气罐(15)， 所述储气罐(15)固定安装于工作台(2) 上， 所述储气罐(15)通过第四管道(16)连通有气压泵(17)， 所述气压泵(17)固定安装于工 作台(2)上。 3.根据权利要求2所述的薄膜沉积设备腔体清洁装置， 其特征在于， 所述抽风组包括吸 风罩(4)和抽风机(8)， 所述吸风罩(4)固定安装于配合槽(6)上， 所述吸风罩(4)朝向待清洁 产品(1)的内部设置， 所述吸风罩(4)通过第一管道(7)固定连接有抽风机(8)， 所述抽风机 (8)固定安装于 工作台(2)上。 4.根据权利要求3所述的薄膜沉积设备腔体清洁装置， 其特征在于， 所述收集组包括收 集箱(10)、 第一防尘网(11)、 第二防尘网(12)和收纳 盒(13)， 所述抽风机(8)通过第二管道 (9)连通有收集箱(10)， 所述收集箱(10)固定安装于工作台(2)上， 所述第一防尘网(11)固 定安装于收集箱(10)的内部， 所述收集箱(10)的一侧开设有第二防尘网(12)， 所述收集箱 (10)的内部滑动连接有收纳盒(13)， 所述工作台(2)的外侧铰接有便 于隔音的隔音罩(3)。 5.根据权利要求1所述的薄膜沉积设备腔体清洁装置， 其特征在于， 所述升降驱动机构 包括连接箱(27)、 丝杆(28)、 锥齿轮副(29)和双轴电机(30)， 所述第一支撑柱(24)固定连接 于工作台(2)上， 所述第一支撑柱(24)通过滑块滑动连接于第二支撑柱(25)上， 所述丝杆 (28)转动 连接于第二支撑柱(25)的内部， 所述第一支撑柱(24)螺纹连接于丝杆(28)上， 所 述丝杆(28)通过锥齿轮副(29)转动连接有双轴电机(30)的输出轴， 所述双轴电机(30)固定 安装于连接箱(27)的内部， 所述连接箱(27)固定安装于第二支撑柱(25)的连接处。 6.根据权利要求1所述的薄膜沉积设备腔体清洁装置， 其特征在于， 所述工作台(2)的 外侧设置有 若干个扶手(31)， 所述 万向轮(26)上设置有刹车件(32)。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217857756 U 2一种薄膜沉积设 备腔体清洁装 置 技术领域 [0001]本实用新型涉及产品腔体清洁领域， 具体是涉及一种薄膜沉积设备腔体清洁装 置。 背景技术 [0002]物理气相沉积技术是指在真空条件下采用物理方法将材料源(固体或液体)表面 气化成气态原子或分子， 或部 分电离成离子， 并通过低压气体(或等离子体)过程， 在基体表 面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术， 物理气相沉积是主要的表面处理技术之一。 PVD (物理气相沉积)镀膜 技术主要分为三类： 真空蒸发镀膜、 真空溅射镀膜和真空离子镀膜。 物 理气相沉积的主要方法有： 真空蒸镀、 溅射镀膜、 电弧等离子体镀、 离子镀膜和分子束外延 等。 相应的真空镀膜设备包括真空蒸发镀膜机、 真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。 随着沉 积方法和技术的提升， 物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、 合金膜、 还可以沉积化合物、 陶瓷、 半导体、 聚合物 膜等 [0003]现有设备清理腔体颗粒都是使用无尘布手动清洁， 由于腔体内部结构复杂， 会有 很多狭小的空间无法清洁到， 而颗粒对产品有着致命的威胁， 严重的影响了产品良率， 那改 善腔体的洁净度就是重中之重， 无法满足 实际使用所需。 [0004]由上可见， 现有的产品腔体清洁存在需手动清洁和清洁效果差 的缺点， 难以得到 推广应用。 [0005]因此， 需要提供一种薄膜沉积设备腔体清洁装置， 旨在解决上述问题。 实用新型内容 [0006]针对现有技术存在的不足， 本实用新型实施例的目的在于提供一种薄膜沉积设备 腔体清洁装置， 以解决上述背景技 术中的问题。 [0007]为实现上述目的， 本实用新型提供如下技 术方案： [0008]一种薄膜沉积设备腔体清洁装置， 位于待清洁产品的外侧， 包括工作台， 所述工作 台的一侧开设有便于配合连接待清洁产品的配合槽， 所述配合槽上设置有吹风机构和抽风 机构， 所述抽风机构机构包括抽风组和收集组， 所述配合槽的外侧设置有便于夹持固定待 清洁产品的夹持机构， 所述夹持机构包括夹持块、 滑杆、 固定板、 弹簧和拉板， 所述夹持块通 过滑杆滑动连接于固定板上， 所述固定板固定连接于工作台上， 所述夹持块与固定板的连 接处设置有弹簧， 所述滑杆的一端固定连接有拉板， 所述夹持块的内侧设置有便于防护的 弹性密封垫， 所述工作台的底部设置有若干便于支撑的第一支撑柱和第二支撑柱， 所述第 一支撑柱与第二支撑柱的连接处设置有升降驱动机构， 所述第二支撑柱的底部 设置有便于 移动的万向轮。 [0009]作为本实用新型进一步的方案， 所述吹风机构包括吹风罩、 储气罐和气压泵， 所述 吹风罩朝向待清洁产品的内部设置， 所述吹风罩通过第三管道连通有储气罐， 所述储气罐 固定安装于工作台上， 所述储气罐通过第四管道连通有气压泵， 所述气压泵固定安装于工说　明　书 1/4 页 3 CN 217857756 U 3