(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221603430.9 (22)申请日 2022.06.24 (73)专利权人 杭州爱新凯科技有限公司 地址 311400 浙江省杭州市富阳区东洲街 道大岭山路207号 (72)发明人 何子强　朱伟杰　朱凡　 (74)专利代理 机构 杭州君度专利代理事务所 (特殊普通 合伙) 33240 专利代理师 徐超 (51)Int.Cl. B08B 3/02(2006.01) B08B 5/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种二流体清洗平台 (57)摘要 本实用新型公开了一种二流体清洗平台， 其 包括净化棚、 二流体清洗机构、 移动平台和吸附 平台； 所述净化棚的内部设有排水工作台； 所述 移动平台固定于排水工作台的上表 面； 所述吸附 平台设置在移动平台上， 吸附平台包括吸附底板 和进气块， 吸附底板上设有若干组气体流道， 进 气块与气体流道一一对应且固定在吸附底板的 下表面； 所述二流体清洗机构固定在净化棚的顶 部并位于吸附平台的上方， 二流体清洗机构包括 调节柱、 安装板和超音速喷嘴， 安装板与调节柱 滑动连接， 超音速喷嘴均匀地布置在安装板的下 表面。 本实用新型采用二流体清洗机构将高压气 态流体和液态 流体混合后喷出， 能够去除零件上 附着的超微小颗粒， 零件表面清洁效果一致性 好， 清洗效率高。 权利要求书1页 说明书3页 附图5页 CN 217857630 U 2022.11.22 CN 217857630 U 1.一种二流体清洗平台， 其特征在于： 其包括净化棚、 二流体清洗机构、 移动平台和吸 附平台； 所述的净化棚的内部设有排水工作台； 所述的移动平台固定于排水工作台的上表 面； 所述的吸附平台设置在移动平台上， 吸附平台包括吸附底板和进气块， 吸附底板上设有 若干组气体流道， 进气块与气体流道一一对应且固定在吸 附底板的下表面； 所述的二流体 清洗机构固定在净化棚的顶部并位于 吸附平台的上方， 二流体清洗机构包括调节柱、 安装 板和超音速喷 嘴， 安装板与调节 柱滑动连接， 超音速喷 嘴均匀地布置在安装板的下表面。 2.根据权利要求1所述的二流体清洗平台， 其特征在于： 所述移动平台包括X轴模组、 Y 轴模组和连接板， 所述的X轴模组固定在排水工作台的上表面， Y轴模组设置在X轴模组的上 方并与X轴模组滑动连接， 连接板位于Y轴模组的上方并与Y轴模组滑动连接， 所述吸附平台 固定在连接 板的上表面。 3.根据权利要求1所述的二流体清洗平台， 其特征在于： 所述净化棚包括框架、 顶板和 密封门体， 顶板位于框架的顶部， 密封门体设置于框架的四周， 密封门体和顶板围成一个密 闭空间， 二流体清洗机构、 移动平台和吸附平台均位于密闭空间内， 净化棚的顶板上设有为 密闭空间提供微 正压环境的F FU风机。 4.根据权利要求3所述的二流体清洗平台， 其特征在于： 所述排水工作台设置于框架的 中间位置， 排水工作台的下方设有电控柜和电气控制口， 二流体清洗机构、 移动平台和吸附 平台均与电控柜连接， 电气控制口与电控柜电连接 。 5.根据权利要求4所述的二流体清洗平台， 其特征在于： 所述净化棚上设有触屏式监控 器， 触屏式监控器与电控柜通信连接 。 6.根据权利要求5所述的二流体清洗平台， 其特征在于： 所述触屏式监控器还配有警示 灯， 警示灯与触屏式监控器通信连接 。 7.根据权利要求1所述的二流体清洗平台， 其特征在于： 所述排水工作台的内部设有空 腔， 排水工作台的顶面设有与空腔连通的排水孔， 排水工作台的底部设有排水阀。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217857630 U 2一种二流体清洗平台 技术领域 [0001]本实用新型属于零件清洗设备 领域， 尤其涉及一种二 流体清洗平台。 背景技术 [0002]精密设备制造领域对零件的洁净程度要求较高， 因为 洁净度对产品的性能有着至 关重要的影响。 零件的基体表 面污染物主要有尘埃粒子、 纤维、 油脂以及加工过程遗留的水 迹、 指纹等， 现有生产工序主 要采用分段转移纯 水清洗。 [0003]传统的清洗设备如授权公告号为CN205380094U的中国专利公开的便于装配的清 洗机， 包括机体， 安装在机体上并设有基准梁的抬起步伐输送机构， 以基准梁为安装基准依 次安装在机体上 的射流清洗机构、 高压清洗机构、 定位清洗机构、 翻转倒水机构、 定位吹干 机构、 真空干燥机构。 [0004]上述清洗设备采用简单的纯水清洗， 该清洗方式无法除净附着的超微小颗粒， 存 在效率低、 耗能大等问题； 大批量混合清洗时， 基 体表面洁净度一 致性差。 实用新型内容 [0005]本实用新型提供了一种二流体清洗平台， 以解决传统清洗装置无法除净附着的超 微小颗粒的问题。 [0006]为解决上述 技术问题， 本实用新型提供的技 术方案为： [0007]本实用新型涉及的一种二流体清洗平台， 其包括净化棚、 二流体清洗机构、 移动 平 台和吸附平台； 所述的净化棚的内部设有排水工作台； 所述的移动平台固定于排水工作台 的上表面； 所述的吸附平台设置在移动平台上， 吸附平台包括吸附底板和进气块， 吸附底板 上设有若干组气体流道， 进气块与气体流道一一对应且固定在吸 附底板的下表面； 所述的 二流体清洗机构固定在净化棚 的顶部并位于吸附平台的上方， 二流体清洗机构包括调节 柱、 安装板和超音速喷嘴， 安装板与调节柱滑动连接， 超音速喷嘴均匀地布置在安装板的下 表面。 [0008]所述的超音速喷嘴用于喷射混合后的高压气态流体和液态流体， 高压气态流体优 选氮气， 液态流体优选去离 子水。 [0009]优选地， 所述移动平台包括X轴模组、 Y轴模组和连接板， 所述的X轴模组固定在排 水工作台的上表面， Y轴模组设置在X轴模组的上方并与X轴模组滑动连接， 连接板位于Y轴 模组的上 方并与Y轴模组滑动连接， 所述吸附平台 固定在连接 板的上表面。 [0010]优选地， 所述净化棚包括框架、 顶板和密封门体， 顶板位于框架的顶部， 密封门体 设置于框架的四周， 密封门体和顶板围成一个密闭空间， 二流体清洗机构、 移动平台和吸附 平台均位于密闭空间内， 净化棚的顶板上设有为密闭空间提供微 正压环境的F FU风机。 [0011]优选地， 所述排水工作台设置于框架的中间位置， 排水工作台的下方设有电控柜 和电气控制口， 二流体清洗机构、 移动平台和吸附平台均与电控柜连接， 电气控制口与电控 柜电连接 。说　明　书 1/3 页 3 CN 217857630 U 3