ICS 37 N 30 备案号：20763—2007 中华人民共和国机械行业标准 JB/T7484—2007 代替JB/T7484—1994 铝（AI）反射镜镀制工艺 Coating techniques for aluminious reflector 2007-05-29发布 2007-11-01实施 中华人民共和国国家发展和改革委员会发布 JB/T7484—2007 目 次 前言 1范围 2规范性引用标准 3术语和定义， 4反射镜分类. 4.1外反射镜.. 4.2内反射镜. 4.3金属-介质反射镜 5主要设备 5.1真空镀膜机 5.2清洗机.. 6工艺流程.. 镀膜前的准备 7.1对辅料的要求. 7.2真空室清理. 7.3热子处理与安装 7.4零件清洗... 8镀膜。 8.1膜料预熔.. 8.2外反射镜与内反射镜的镀膜 8.3金属 介质高反射镜的镀膜， 9质量检验 JB/T74842007 前言 本标准代替JB/T7484一1994《铝（A1）反射镜镀制工艺》。 本标准修订时删除了离子轰击部分的内容，将可见区保护膜（层）的镀制材料由一氧化硅（SiO） 改成了二氧化硅（SiO2）。 本标准由机械工业联合会提出。 本标准由机械工业仪器仪表元器件标准化技术委员会归口。 本标准由沈阳仪表科学研究院、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心负责起草。 本标准的主要起草人：王银河、张辉、李延夫。 本标准于1994年首次发布，本次为第一次修订。 II JB/T7484—2007 铝（AI）反射镜镀制工艺 1范围 本标准规定了光学零件真空镀铝的工艺流程、镀膜质量及主要参数控制。 本标准适用于可见、紫外与近红外光谱区使用的光学零件真空镀铝反射镜，加介质保护膜的外反射 镜与加保护漆的内反射镜，以及加镀多层介质膜层的金属-介质高反射镜。 2规范性引用标准 下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的 修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准。然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究 是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。 GB/T111641999真空镀膜设备通用技术条件 JB/T8226.3—1999 9光学零件镀膜外反射膜 JB/T8226.4—1999光学零件镀膜内反射膜 3术语和定义 下列术语和定义适用于本标准。 3.1 真空镀膜 vacuumcoating 真空中被加热的金属或介质材料达一定温度时发生汽化或升华，从本体逸出的分子（或原子）辐射、 撞击、凝聚在特定位置放置的工件上而形成所需薄膜的工艺。 3.2 基片substrate 薄膜的载体。待镀膜的表面应是新加工的光学表面。 3.3 膜料coatingmaterials 获得薄膜的初始材料。 3.4 热子与蒸发源heatingunitandsource 对膜料加热的单元是热子；热子与膜料组合则称为蒸发源。 3.5 辅料assistantmaterials 膜料以外的与镀膜工艺过程相关的辅助材料。如热子材料，清洗用的纱布、溶剂等。 4反射镜分类 4.1外反射镜 基片的前表面是镜面，待镀膜表面镀铝膜构成反射镜面。 4.2内反射镜 基片的后表面是镜面，待镀膜表面镀铝膜加保护层（漆）构成反射镜面，光线通过零件进行反 射。 1 JB/T7484—2007 4.3金属-介质反射镜 基片的前表面是镜面，待镀膜表面镀铝膜加多层介质膜构成金属-介质高反射镜面。其结构表示为： G/[AI+(LH) P/A 式中： G基片; AI-铝膜； L、H一—低折射率、高折射率的2/4有效光学厚度的介质膜层。为使用光谱区的中心波长； p———L、H的周期数，通常取p=1或2。P值增加可提高部分光谱区的反射，但同时使反射带变窄； A-空气。 5主要设备 5.1真空镀膜机 选用光学工业用镀膜机。 生产外、内反射镜的设备可不具备膜厚控制仪； 生产金属一一介质高反射镜的设备必须有膜厚控制仪； 设备安装工作条件应符合GB/T11164的规定。 5.2清洗机 选用光学工业用镀前清洗机。 依据基片适用特性选用清洗剂（酸液、洗涤剂、有机溶剂）和超声波清洗及脱水干燥规范。允许采 用保证质量的手工镀前清洗。 6工艺流程 前期准备→待加工工件装人真空室→抽真空达10~3Pa量级→膜料预熔彻底除气→快速抽真空达 10~3Pa量级→镀膜→充大气取件→检验包装 前期准备包括：基片清洗、真空室清理与热子安装和膜料处理与装料。 7镀膜前的准备 7.1对辅料的要求， 擦拭用的棉花、纱布必须脱脂、洗净、干燥；乙醇乙醚等溶剂的纯度不低于分析纯。 7.2真空室清理 真空室内所有部件必须净化干燥，无油脂污染，不应用含气量大的材料制造附件，不应放人高蒸汽 压的物品。 真空室内壁及部件需用喷砂或砂纸擦拭以去掉积垢，清洗、干燥后备用。 7.3热子处理与安装 热子用的螺旋状钨丝用苛性钠溶液煮沸去掉氧化皮，清洗干燥后备用。 热子安装位置要准确、牢固、且不能受力扭曲。 7.4零件清洗 7.4.1清洗的作用是使得零件脱脂净化。 7.4.2脱脂净化质量检验用哈气成像法。处理过的净化表面哈气时应呈现均匀的“黑色”哈气像。 8镀膜 8.1膜料预熔 预熔应逐渐加热，彻底除气。熔化蒸发的材料应熔透。 2 JB/T7484—2007 8.2外反射镜与内反射镜的镀膜 8.2.1铝膜最佳制备条件 铝膜最佳制备条件： 高纯膜料，铝的纯度不低于99.99%； 真空环境必须干燥、无油； 高真空蒸发，镀膜期间真空度不得低于3.99×10-3Pa; 快速蒸发，要在5s之内完成； 冷基片，基片温度为室温； 小的蒸气人射角； 适宜的铝膜厚度，厚度约为70nm～80nm，透射比（率）在10→以下。 8.2.2保护膜（层） 8.2.2.1外反射镜的保护膜 外反射镜的保护膜是在真空室内镀透明介质膜，镀完铝膜后开烘烤加温10min，再蒸镀保护膜。保 护膜的光学厚度为使用波段中心波长的1/2，偏离会使反射带中心位移；若镀成高级次反射带，则使反 射带变窄。 可见区使用的反射镜，推荐膜料为二氧化硅（SiO2）；紫外区使用的反射镜，推荐膜料为氟化镁 (MgF2)。 8.2.2.2内反射镜的保护膜 内反射镜的保护膜通常是涂漆，在真空室外进行。 漆的选择除要能有效保护外，不应与铝膜反应而降低铝膜的光学性能。 8.3金属—介质高反射镜的镀膜 8.3.1铝膜最佳制备条件 铝膜最佳制备条件同8.2.1。 8.3.2铝膜上加镀的介质膜 调整膜厚监控仪，严格按照膜系要求控制膜层厚度。 镀完铝膜后开烘烤加温10min，再镀低折射率L层。 9质量检验 9.1外反射镜按照JB/T8226.3检验。 9.2内反射镜按照JB/T8226.4检验。 9.3金属-介质高反射镜光谱反射比按设计（或技术）要求检验，其余参照JB/T8226.4检验。