ICS 77. 120. 30 YS H 13 中华人民共和国有色金属行业标准 YS/T483—2005 铜及铜合金分析方法 X射线荧光光谱法 （波长色散型） Methods for analysis of copper and copper alloys --X-Rayfluorescencespectrometric (wavelength dispersive) 2005-05-18发布 2005-12-01.实施 国家发展和改革委员会 发布 YS/T483—2005 前 言 本标准为首次制定。 本标准采用X射线荧光光谱法测定铜及铜合金中Cu、Ni、Zn、Al、Fe、Sn、Pb、Mn、Si、Cr、As、P、 Mg、Ag常见分析元素，涉及GB/T5231一2001《加工铜及铜合金化学成分和产品形状》中五十多个合 金牌号的化学成分，及ISO、ASTM、JIS、BS等标准中的数百个合金牌号化学成分的分析。 本标准附录A为资料性附录。 本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。 本标准由全国有色金属标准化技术委员会负责解释。 本标准由洛阳铜加工集团有限责任公司起草。 本标准由长沙铜铝材有限公司、沈阳有色金属加工厂参加起草。 本标准主要起草人：胡晓春、原怀保、王越奇、吴宪智、赵燕杰、梅恒星、张敬华、杨丽娟、孟惠娟、 李红。 本标准主要验证人：李宏斌、李雅民、周建平。 YS/T483--2005 铜及铜合金分析方法 X射线荧光光谱法 （波长色散型） 1范围 本标准规定了铜及铜合金中合金元素及主要杂质元素的分析方法。 本标准适用于X射线荧光光谱法分析铜及铜合金中合金元素及主要杂质元素。 各元素的测定范围见表1。 表 1 元 素 测定范围/% 元 素 测定范围/% Cu 40.00~98.00 Mn 0.010~15.00 IN 0.010~35.00 IS 0.010~6.00 Zn 0.010~45.00 Cr 0.010~2.00 Al 0.010~15.00 As 0.010~0.50 Fe P 0.010~10.00 0.010~1.00 Sn 0.010~15.00 Mg 0.010~1.00 Pb 0.010~10.00 Ag 0.010~1.00 2 规范性引用文件 下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有 的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究 是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。 GB/T8170数值修约规则 3方法原理 由大功率X射线管发射的一次X射线照射已制好的试样平面使元素激发，产生具有被测元素特征 的二次X射线（即荧光X射线），该混合光经分光晶体分光色散，对应的单色光由检测器接收，由计数器 等部件记录其强度，根据标准物质（标准样品）制作的工作曲线测出试样中各待测元素的质量百分数。 4仪器 仪器应能满足本标准所规定的各元素的分析要求，具有良好的稳定性和灵敏度，能得出准确的分析 结果。其技术参数应满足或优于表2（仪器条件例）。常见元素分析晶体及分析线见附录A。 1 YS/T483—2005 表 2 3kW铍窗管，Rh靶，端窗 X射线 发生器 最大功率：3kW(50kV,100mA) 晶体 LiF,PET,NaCl,TAP,Ge Ne,Ar,Krexatron 探测器 Ne,Ar, Kr--multitron 闪烁计数器(SC) 5辅助设备、材料 5.1辅助设备：能满足试样加工要求的车床或铣床。 5.2标准物质（标准样品）：建立分析曲线用的标准物质（标准样品）应采用国家级或公认的权威机构研 制的标准物质。原则上标准物质（标准样品）应是与分析试样的化学组成及冶金铸造过程基本一致，并 个系列。 5.3再校准样：用来校正工作曲线漂移的样品。可以是制作工作曲线的标样，也可以是再校准样。 5.4控制样：与分析试样的组成及铸造过程一致的化学成分已知的均匀样品。以确保分析结果准确、 仪器状态受控。 6试样及制备 6.1试样尺寸 厚度不小于0.2mm，直径在25mm～50mm之间（一般参照试样容器的尺寸）。 6.2取样 分析用的试样应均匀、无气孔、无夹渣、无裂纹，具有代表性。样面光洁平整、无氧化。样品可以从 熔体中取，也可以从铸锭或加工件上取。 从熔融状态取样时，用预热过的铸铁模或钢模浇铸成型。对分析易挥发的元素，应采用埚直接从 熔体中取样； 从铸锭或加工件上取样时，应从具有代表性的部位取样。 6.3试样加工 试样分析面用车床或铣床加工成光洁的平面。因样面粗糙度对结果有一定的影响，故待测试样应 与标样、控制样的加工方式、粗糙度尽可能一致。 7环境 7.1仪器应放置在无电磁干扰、无震动、无气体腐蚀的场所。温度、湿度的控制按仪器要求配置。一般 温差在8h之内应不超过土2℃，湿度<75%。 机配备UPS电源。 8分析步骤 8.1按仪器说明书将仪器设置到工作状态，稳定30min。 8.2仪器工作状态控制及校准 8.2.1运用仪器提供的诊断功能，定时（每天或每班)对仪器各部件状态进行诊断，如有异常及时予以 处理，保证其正常受控。 2 YS/T483—2005 8.2.2定期按校准规范对仪器进行校准，以使各性能指标达到较佳值。 8.3根据试样的种类和合金牌号选择适合的标准物质（标准样品）。 8.4根据试样的种类和合金牌号选择分析程序，依据试验或说明书推荐选择合适的分析条件和分 析线。 表3 分析条件示例 元素 Cu Pb Fe Mn Ni P Si Sn Zn As Ag 分析晶体 LiF LiF LiF LiF LiF Ge PET LiF LiF SC LiF 分析线 Ka Lβ Ka Ka Kα Kα Kα Kα Kα Kβ Ka 波长/nm 0. 154 0.098 0.194 0.210 0.165 0.616 0.713 0.049 0.144 0.106 0.056 X光管 佬靶端窗管；管电压45kV；管电流50mA 试样自转 40 r/min 面罩 Φ25mm钛面罩 8.5工作曲线的建立及再校准样原始强度值的获得：根据待测试样的种类，选择标准物质（标准样品） 及再校准样。每个样品测量3～5次，取其平均值存储。用标准物质（标准样品）中元素的平均强度与对 应的质量分数建立工作曲线并存储。所得再校准样强度的平均值即为其原始强度。 8.6根据仪器提供的方法，考虑共存元素和基体的差别所带来的影响，对测定值进行校准，得出有关相 关系数并存储。 基体校准方法示例：Lachance-Traill校准模型 C = R.(1 +. 2_agC,) 式中： C,—i元素校准后质量分数； R;i元素校准前质量分数； C，一j元素标准样品（物质）质量分数； αjj元素对i元素的吸收增强系数； i一分析元素； j——影响元素。 8.7分析曲线的再校准：应定期对分析曲线进行再校准，确保分析曲线受控，校准系数一般在0.8～ 1.2之间。 8.8控制样分析：每天分析前应先分析控制样，确保控制样的分析结果在允许误差范围内。 8.9试样分析：在上述条件都正常的情况下分析试样，试样重复分析3次，数据稳定一致时取其平均值 作为分析结果。分析结果以质量分数（%）表示，按GB/T8170修约到产品标准规定的位数。 9精密度 9.1重复性 在重复性条件下获得的两次独立测试结果的绝对差值应不超过表4所列重复性限（r），超过重复性 限（r)的情况不超过5%，重复性限（r）按表4数据采用线性内插法求得。 9.2再现性 在再现性条件下获得的两次独立测试结果的绝对差值应不超过表5所列再现性限（R），超过再现 性限（R)的情况不超过5%，再现性限（R)按表5数据采用线性内插法求得。 3 YS/T483-2005 表 4 元素的质量分数/% 重复性限(r)/% 0.010 0.002 5 0.10 0. 015 0. 50 0. 05 >5.00~10.00 0.08 >10.00~20.00 0. 10 0. 12 >20.00~40.00 >40. 00~98.00 0. 15 表 5 元素的质量分数/% 再现性限(R)/% 0.010 0. 003 0. 10 0. 020 0. 50 0. 075 >5. 00~10. 00 0. 10 >10.00~20.00 0. 12 >20. 00~40. 00 0. 15 >40.00~98.00 0. 20 注：重复性（r)为2.8S，，S，为重复性标准差。 再现性（R)为2.8Sk，SR为再现性标准差。 质量保证和控制 应选用国家级标准样品、行业级标准样品或精度相当的其他标准样品绘制工作曲线。选择适当的 漂移校准样和管理样（建议使用行业级或国家级的控样）。按需要定期对仪器进行校验；每周或每两周 校准一次本分析方法的有效性，适时进行漂移分析和管理样分析，当过程失控时，应找出原因，纠正错误 后，重新进行校核，确保分析的正确性。 YS/T483—2005 附录A （规范性附录） 常见元素分析晶体及分析线 素 分析晶体 分析线 最低激发电压/kV Cu LiF Kα 8.98 uz LiF Kα 9.66 Pb LiF Lp 15. 86 Fe LiF Kα 7. 11 Co LiF Kα 7. 71 IN LiF Kα 8. 33 Mn LiF Kα 6. 54 us LiF Ka, La 29.18,4.46 Is PET Kα 1. 84 Al PET Kα 1. 56 Cr LiF Kα 5. 99 P G