(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222568787.4 (22)申请日 2022.09.26 (73)专利权人 中山市普雷斯 等离子科技有限公 司 地址 528400 广东省中山市 火炬开发区建 业路32号B区厂房二层之三 (72)发明人 王国杰　李爵立　 (74)专利代理 机构 广东科朋专利代理事务所 (普通合伙) 44913 专利代理师 程勇 (51)Int.Cl. B08B 7/00(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)实用新型名称 真空等离 子立式清洗组件 (57)摘要 本实用新型公开了真空等离子立式清洗组 件， 包括壳体、 若干正电极、 若干负电极和若干吊 件， 壳体内开设有真空腔， 若干正电极和若干负 电极自下而上延伸， 并在真空腔内交替间隔设 置， 若干吊件设置在真空腔顶部并分设在各相邻 的负电极和正电极之间。 本真空等离子立式清洗 组件通过将正负电极竖直放置， 并在正负电极之 间设置吊件， 使产品清洗时悬挂在正负电极之 间， 以便等离子与产品的外表面全面接触， 提高 清洗效果和清洗效率。 权利要求书1页 说明书3页 附图3页 CN 218079437 U 2022.12.20 CN 218079437 U 1.真空等离子立式清洗组件， 其特征在于， 包括壳体、 若干正电极、 若干负电极和若干 吊件， 所述壳体内开设有真空腔， 所述若干正电极和所述若干负电极自下而上延伸， 并在所 述真空腔内交替间隔设置， 所述若干吊件设置在所述真空腔顶部并分设在各相邻的所述负 电极和所述 正电极之间。 2.根据权利要求1所述的真空等离子立式清洗组件， 其特征在于， 所述壳体前侧开设有 与所述真空腔连通的开口， 所述真空腔顶部和/或底部由左及右并排设有若干供各所述正 电极对应插 入的第一装配槽， 各 所述第一装配槽由前往后延伸。 3.根据权利要求2所述的真空等离子立式清洗组件， 其特征在于， 所述真空腔后侧由左 及右并排设有若干 分别与各所述正电极相对的第一装配座， 各所述第一装配座上开设有 供 各所述正电极对应插 入的第二装配槽， 各 所述第二装配槽自下而上延伸。 4.根据权利要求3所述的真空等离子立式清洗组件， 其特征在于， 所述真空腔后侧由上 而下分层设有 若干层所述由左及右并排设置的第一装配座。 5.根据权利要求2所述的真空等离子立式清洗组件， 其特征在于， 所述真空腔顶部和/ 或底部由左 及右并排设有若干供各所述负电极对应插入的第三装配槽， 各所述第三装配槽 由前往后延伸。 6.根据权利要求5所述的真空等离子立式清洗组件， 其特征在于， 所述真空腔后侧由左 及右并排设有若干 分别与各所述负电极相对的第二装配座， 各所述第二装配座上开设有 供 各所述负电极对应插 入的第四装配槽， 各 所述第四装配槽自下而上延伸。 7.根据权利要求6所述的真空等离子立式清洗组件， 其特征在于， 所述真空腔后侧由上 而下分层设有 若干层所述由左及右并排设置的第二装配座。 8.根据权利要求1所述的真空等离子立式清洗组件， 其特征在于， 所述真空腔顶部由左 及右并排设有 若干与各 所述吊件 对应滑动连接的导向槽， 各 所述导向槽由前往后延伸。 9.根据权利要求1或8所述的真空等离子立式清洗组件， 其特征在于， 所述吊件包括连 接在所述真空腔顶部的连接 部， 以及设置在所述连接 部下端的夹持部 。 10.根据权利要求1所述的真空等离子立式清洗组件， 其特征在于， 所述真空腔底部于 各相邻的所述负电极和所述 正电极之间开设有前后延伸的导轨 槽； 和/或各相邻的所述负电极和所述 正电极的间距大于 35mm。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 218079437 U 2真空等离 子立式清洗组件 【技术领域】 [0001]本实用新型 涉及等离 子清洗机， 尤其涉及真空等离 子立式清洗组件。 【背景技术】 [0002]等离子清洗机通过设置在真空腔内的正负电极放电击穿空气产生等离子从而清 洗产品表面。 其中， 正负电极水平放置， 正负电极之间设有放置产品的托盘， 待清洗的产品 放置在托盘上。 此结构， 由于待清洗的产品至少部 分贴合在托盘上， 导致产品与托盘贴合的 一侧清洗不到， 清洗效果差， 若翻面清洗， 则降低清洗效率。 【实用新型内容】 [0003]为了解决传统等离子清洗机中正负电极水平放置， 正负电极之间设有托盘， 清洗 时， 产品与托盘贴合的一侧清洗不到， 清洗效果不佳、 清洗效率低的技术问题， 本实用新型 的目的在于提供真空等离 子立式清洗组件。 [0004]本实用新型 是通过以下技 术方案实现的： [0005]真空等离子立式清洗组件， 包括壳体、 若干正电极、 若干负电极和若干吊件， 所述 壳体内开设有真空腔， 所述若干正电极和所述若干负电极自下而上延伸， 并在所述真空腔 内交替间隔设置， 所述若干吊件设置在所述真空腔顶部并分设在各相 邻的所述负电极和所 述正电极之间。 [0006]进一步地， 所述壳体前侧开设有与所述真空腔 连通的开口， 所述真空腔顶部和/或 底部由左 及右并排设有若干供各所述正电极对应插入的第一装配槽， 各所述第一装配槽由 前往后延伸。 [0007]进一步地， 所述真空腔后侧由左及右并排设有若干分别与各所述正电极相对的第 一装配座， 各所述第一装配座上开设有供各所述正电极对应插入的第二装配槽， 各所述第 二装配槽自下而上延伸。 [0008]进一步地， 所述真空腔后侧由上而下分层设有若干层所述由左及右并排设置的第 一装配座。 [0009]进一步地， 所述真空腔顶部和/或底部 由左及右并排设有若干供各所述负电极对 应插入的第三装配槽， 各 所述第三装配槽由前往后延伸。 [0010]进一步地， 所述真空腔后侧由左及右并排设有若干分别与各所述负电极相对的第 二装配座， 各所述第二装配座上开设有供各所述负电极对应插入的第四装配槽， 各所述第 四装配槽自下而上延伸。 [0011]进一步地， 所述真空腔后侧由上而下分层设有若干层所述由左及右并排设置的第 二装配座。 [0012]进一步地， 所述真空腔顶部由左及右并排设有若干与各所述吊件对应滑动连接的 导向槽， 各 所述导向槽由前往后延伸。 [0013]进一步地， 所述吊件包括连接在所述真空腔顶部 的连接部， 以及设置在所述连接说　明　书 1/3 页 3 CN 218079437 U 3