(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221690438.3 (22)申请日 2022.06.30 (73)专利权人 西安奕斯伟材 料科技有限公司 地址 710000 陕西省西安市高新区西沣南 路1888号1-3-029室 专利权人 西安奕斯伟硅片技 术有限公司 (72)发明人 马科宁　 (74)专利代理 机构 北京银龙知识产权代理有限 公司 11243 专利代理师 张蓉 (51)Int.Cl. B08B 9/34(2006.01) B08B 13/00(2006.01) F26B 21/00(2006.01) (54)实用新型名称 承载槽清洗装置 (57)摘要 本实用新型涉及一种承 载槽清洗装置， 包括 固定结构、 排液结构、 清洗 结构和风干结构； 所述 固定结构 包括固定基台， 以及设置于所述固定基 台上的固定柱； 所述排液结构包括排液管、 过滤 槽和离心泵， 所述排液管和所述离心泵之间设置 有所述过滤槽； 所述清洗结构 包括用于向承 载槽 内喷清洗液的清洗管和与所述清洗管连通的供 水结构； 所述风干结构包括用于向承 载槽提供惰 性气体的进气管和与所述进气管连通的供气结 构。 权利要求书1页 说明书5页 附图2页 CN 217451373 U 2022.09.20 CN 217451373 U 1.一种承载槽清洗装置， 其特 征在于， 包括固定结构、 排液 结构、 清洗结构和风干结构； 所述固定结构包括固定基台， 以及设置 于所述固定基台上的固定柱； 所述排液结构包括排液管、 过滤槽和离心泵， 所述排液管和所述离心泵之间设置有所 述过滤槽； 所述清洗结构包括用于向承载槽内喷清洗液的清洗管和与所述清洗管连通的供水结 构； 所述风干结构包括用于向承载槽提供惰性气体的进气管和与所述进气管连通的供气 结构。 2.根据权利要求1所述的承载槽清洗装置， 其特 征在于， 还 包括： 固定基板， 所述固定基板与所述固定基台相垂直设置； 盖板， 沿第一方向可移动的设置于所述固定基板上， 所述盖板上设置有供所述排液管 和所述清洗管穿过的通 孔， 所述第一方向为垂直于所述固定基台的方向。 3.根据权利要求2所述的承载槽清洗装置， 其特征在于， 所述盖板包括第 一子盖板和第 二子盖板， 所述第一子盖板上设置有供所述清洗管穿过的第一通孔， 所述第二子盖板上设 置有供所述排液管穿过的第二通孔， 所述固定基板上设置有用于分别控制所述第一子盖板 和所述第二子 盖板在所述第一方向上移动的升降结构。 4.根据权利要求2所述的承载槽清洗装置， 其特征在于， 还包括移动结构， 用于控制所 述固定基板在垂 直于所述第一方向的第二方向移动， 以带动所述排液管和所述清洗管在所 述第二方向上移动。 5.根据权利要求4所述的承载槽清洗装置， 其特征在于， 所述移动结构包括沿所述第 二 方向延伸设置 于所述固定基板上的齿条， 所述齿条通过齿轮与驱动电机连接 。 6.根据权利要求3所述的承载槽清洗装置， 其特征在于， 所述清洗管包括多个相交替连 接的直管部 分和弯管部 分， 所述清洗管位于所述第一通孔远离所述固定基台的部分的直径 大于所述清洗管位于所述第一 通孔靠近所述固定基板的部分的直径。 7.根据权利要求6所述的承载槽清洗装置， 其特征在于， 所述清洗管位于所述第 一通孔 远离所述固定基台的部 分包括第一子部 分和第二子部分， 所述第一子部分和所述第二子部 分之间通过旋转接 头连接； 所述清洗结构还包括旋转驱动部和与所述第 二子部分传动连接的传动带， 所述旋转驱 动部控制所述传动带旋转， 从而带动所述第二子 部分旋转。 8.根据权利要求6所述的承载槽清洗装置， 其特征在于， 所述清洗管靠近所述固定基 台 的一端设置有雾化喷头 。 9.根据权利要求3所述的承载槽清洗装置， 其特征在于， 所述排液管包括多个相交替连 接的直管部 分和弯管部 分， 所述排液管位于所述第二通孔远离所述固定基台的部分的直径 大于所述清洗管位于所述第二 通孔靠近所述固定基板的部分的直径。 10.根据权利要求2所述的承载槽清洗装置， 其特征在于， 还包括进液结构， 包括用于向 所述承载槽内提供 纯水的进液 管， 和与所述进液 管连通的纯 水提供结构。 11.根据权利要求1所述的承载槽清洗装置， 其特征在于， 所述固定基台上设置有用于 感应所述承载槽的传感器。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217451373 U 2承载槽清洗装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及清洗技 术领域， 尤其涉及一种承载槽清洗装置 。 背景技术 [0002]在目前的最终抛光机加工制程中， 在硅片加工结束后， 卸载部机械手将硅片放置 在卸载部水槽内， 利用水车将水槽推送至下一道工序再进行加工(水槽固定在水车上)， 由 于水槽不能加装盖板， 长时间环境中的一些微粒或者灰尘会掉落在水槽， 导致水槽内的制 品Particle超标； 另外还有在设备发生故 障， 例如卸载部机械臂在往水槽放置硅片时发生 异常， 需要手动将水槽拿出， 这样可能二次污染水槽， 影响制品表面的Particle， 降低制品 的良率。 因此， 需要定期对水槽进行清洗， 清洗时是通过水枪冲洗水槽， 水槽由于需固定在 水车上， 底部不能加排水， 故清洗完水槽， 需用容器将清洗后的水盛 出， 倒进废水池， 然后擦 拭水槽内壁。 这种方式费时， 费力效率低， 并且清洗不彻底。 实用新型内容 [0003]为了解决上述技术问题， 本实用新型提供一种承载槽清洗装置， 解决清洗承载槽 效率低且清洗不彻底的问题。 [0004]为了达到上述目的， 本实用新型实施例采用的技术方案是： 一种承载槽清洗装置， 其特征在于， 包括固定结构、 排液 结构、 清洗结构和风干结构； [0005]所述固定结构包括固定基台， 以及设置 于所述固定基台上的固定柱； [0006]所述排液结构包括排液管、 过滤槽和离心泵， 所述排液管和所述离心泵之间设置 有所述过 滤槽； [0007]所述清洗结构包括用于向承载槽内喷清洗液的清洗管和与所述清洗管连通的供 水结构； [0008]所述风干结构包括用于向承载槽提供惰性气体的进气管和与所述进气管连通的 供气结构。 [0009]可选的， 还 包括： [0010]固定基板， 所述固定基板与所述固定基台相垂直设置； [0011]盖板， 沿第一方向可移动的设置于所述固定基板上， 所述盖板上设置有供所述排 液管和所述清洗管穿过的通 孔， 所述第一方向为垂直于所述固定基台的方向。 [0012]可选的， 所述盖板包括第一子盖板和第二子盖板， 所述第一子盖板上设置有供所 述清洗管穿过 的第一通孔， 所述第二子盖板上设置有供所述排液管穿过的第二通孔， 所述 固定基板上设置有用于分别控制所述第一子盖板和所述第二子盖板在所述第一方向上移 动的升降结构。 [0013]可选的， 还包括移动结构， 用于控制 所述固定基板在垂直于所述第一方向的第二 方向移动， 以带动所述 排液管和所述清洗管在所述第二方向上移动。 [0014]可选的， 所述移动结构包括沿所述第二方向延伸设置于所述固定基板上的齿条，说　明　书 1/5 页 3 CN 217451373 U 3