(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221850671.3 (22)申请日 2022.07.19 (73)专利权人 南通富电半导体材 料科技有限公 司 地址 226500 江苏省南 通市如皋市城南 街 道海阳南路2 号电子信息产业园3号楼 2楼 专利权人 如皋市化 合物半导体产业研究所 (72)发明人 何建军　沈桂英　赵有文　 (74)专利代理 机构 北京和信华成知识产权代理 事务所(普通 合伙) 11390 专利代理师 李莹 (51)Int.Cl. B08B 3/04(2006.01) B08B 3/08(2006.01)B08B 11/00(2006.01) B08B 13/00(2006.01) F26B 21/00(2006.01) H01L 21/67(2006.01) H01L 21/677(2006.01) (54)实用新型名称 一种硅片生产加工清洗装置 (57)摘要 本实用新型涉及一种清洗装置， 尤其涉及一 种硅片生产加工清洗装置。 本实用新型的目的是 提供一种能够对硅片进行多次清洗的硅片生产 加工清洗装置。 本实用新型提供了这样一种硅片 生产加工清洗装置， 包括有底座、 清洗池、 装料 箱、 导向架和电机等， 底座顶部右侧连接有用于 放置超纯水的清洗池， 清洗池上连接有两个用于 放置酸性清洗液和碱性清洗液的装 料箱， 底座顶 部左侧也连接有装料箱， 底座的一侧放置有导向 架， 导向架右侧连接有电机。 本实用新型通过第 一电动推杆作为驱动力， 能够驱动硅片往下运动 依次进入酸性清洗液、 超纯水和碱性清洗液内进 行清洗， 从而能够通过酸性清洗液、 碱性清洗液 和超纯水对硅片进行多次浸泡清洗， 清洗效果较 好。 权利要求书1页 说明书4页 附图5页 CN 218014487 U 2022.12.13 CN 218014487 U 1.一种硅片生产加工清洗装置， 其特征在于， 包括有底座 （1） 、 清洗池 （101） 、 装料箱 （2） 、 导向架 （3） 、 电机 （301） 、 丝杆 （4） 、 第一电动推杆 （5） 、 移动架 （6） 、 第二电动推杆 （7） 、 固 定块 （8） 、 放置架 （9） 和排水阀 （17） ， 底座 （1） 顶部右侧连接有用于放置超纯水的清洗池 （101） ， 清洗池 （101） 上连接有两个用于放置酸性清洗液和碱性清洗液的装料箱 （2） ， 底座 （1） 顶部左侧也连接有装 料箱 （2） ， 底座 （1） 的一侧放置有导向架 （3） ， 导向架 （3） 右侧连接有 电机 （301） ， 导向架 （3） 上部转动式设置有丝杆 （4） ， 丝杆 （4） 右端与电机 （301） 的输出轴连 接， 丝杆 （4） 的一侧螺纹式设置有第一电动推杆 （5） ， 第一电动推杆 （5） 的伸缩杆顶部连接有 移动架 （6） ， 移动架 （6） 下部前后两侧均连接有第二电动推杆 （7） ， 两个第二电动推杆 （7） 的 伸缩杆内侧均连接有固定块 （8） ， 两个固定块 （8） 内侧之间放置有用于放置硅片的放置架 （9） ， 放置架 （9） 位于左侧的装料箱 （2） 内， 清洗池 （101） 装料箱 （2） 底部均连接有排水阀 （17） 并连通。 2.根据权利要求1所述的一种硅片生产加工清洗装置， 其特征在于， 还包括有固定架 （10） 、 暖风机 （11） 、 滑轨 （12） 、 滑板 （13） 、 第三电动推杆 （14） 和推板 （15） ， 右侧的清洗池 （101） 上远离第一电动推杆 （5） 的一侧连接有固定架 （10） ， 固定架 （10） 内部左侧连接有用于 对清洗好的硅片进行烘干的暖风机 （11） ， 固定架 （10） 内底部前后两侧均连接有滑轨 （12） ， 两个滑轨 （12） 上部之间滑动式设置有滑板 （13） ， 滑板 （13） 位于暖风机 （11） 的上方， 右侧的 清洗池 （101） 右侧连接有第三电动推杆 （14） ， 第三电动推杆 （14） 位于滑板 （13） 的下方， 第三 电动推杆 （14） 的伸缩杆右侧连接有推板 （15） ， 推板 （15） 上部与滑板 （13） 连接 。 3.根据权利要求2所述的一种硅片生产加工清洗装置， 其特征在于， 还包括有挡板 （16） ， 固定架 （10） 上部滑动式设置有用于挡住滑板 （13） 上 方的挡板 （16） 。 4.根据权利要求3所述的一种硅片生产加工清洗装置， 其特征在于， 滑板 （13） 顶部均匀 间隔开有圆孔。 5.根据权利要求4所述的一种硅片生产加工清洗装置， 其特征在于， 还包括有高压喷头 （18） ， 右侧的清洗池 （101） 左侧下部连接有用于对清洗池 （101） 进行清洗的高压喷头 （18） 并 连通。 6.根据权利要求1所述的一种硅片生产加工清洗装置， 其特征在于， 放置架 （9） 的材质 为铁。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 218014487 U 2一种硅片生产加工清洗装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及一种清洗装置， 尤其涉及一种硅片生产加工清洗装置 。 背景技术 [0002]半导体器件生产中硅片须经严格清洗， 微量污染也会导致器件失效， 清洗 的目的 在于清除表面污染杂质， 包括有机物和无机物， 这些杂质有的以原子状态或离子状态， 有的 以薄膜形式或颗粒 形式存在于 硅片表面， 会导 致各种缺陷。 [0003]专利申请CN110773505A， 公开日为20200211， 公开了一种硅片清洗装置及方法， 涉 及半导体硅片领域。 该装置包括： 清洗槽， 用于盛放清洗待清洗硅片的清洗液； 设置在清洗 槽内部的多条清洗线， 每相邻两条清洗线之间间隔一定距离， 每一清洗线的两端均分别与 清洗槽的内部侧 壁或设置在内部侧 壁上的装置连接； 夹持结构， 设置于清洗槽的开口的上 方， 用于固定多个待清洗硅片， 并带动硅片沿竖直方向运动， 多个硅片因晶棒被切割而形 成， 多个硅片之间的间隙与多条清洗线相对应。 上述专利的实施例有效解决了现有技术无 法有效清洗相 邻硅片的相对表 面， 清洗质量低的问题。 上述专利虽然能够 对硅片进 行清洗， 但是只能够对硅片进行一次的清洗， 清洗效果较差 。 [0004]针对上述专利只能对硅片进行一次清洗， 清洗效果较差 的问题， 故现在迫切需要 一种能够对硅片进行多次清洗的硅片生产加工清洗装置， 用来 解决上述问题。 实用新型内容 [0005]为了克服现有的硅片清洗装置一般只能对硅片进行一次清洗， 清洗效果较差的缺 点， 本实用新型的目的是提供一种能够对硅片进行多次清洗的硅片生产加工清洗装置 。 [0006]本实用新型通过以下技 术途径实现： [0007]一种硅片生产加工清洗装置， 包括有底座、 清洗池、 装料箱、 导向架、 电机、 丝杆、 第 一电动推杆、 移动架、 第二电动推杆、 固定块、 放置架和排水阀， 底 座顶部右侧连接有用于放 置超纯水 的清洗池， 清洗池上连接有两个用于放置酸性清洗液和碱性清洗液 的装料箱， 底 座顶部左侧也连接有装料箱， 底座的一侧放置有导向架， 导向架右侧连接有电机， 导向架上 部转动式设置有丝杆， 丝杆右端与电机的输出轴 连接， 丝杆的一侧螺纹式设置有第一电动 推杆， 第一电动推杆 的伸缩杆顶部连接有移动架， 移动架下部前后两侧均连接有第二电动 推杆， 两个第二电动推杆 的伸缩杆内侧均连接有固定块， 两个固定块内侧之间放置有用于 放置硅片的放置架， 放置架位于左侧的装料箱内， 清洗池装料箱底部均连接有排水阀并连 通。 [0008]进一步地， 还包括有固定架、 暖风机、 滑轨、 滑板、 第三电动推杆和推板， 右侧的清 洗池上远离第一电动推杆的一侧连接有固定架， 固定架内部左侧连接有用于对清洗好的硅 片进行烘干的暖风机， 固定架内底部前后两侧均连接有滑轨， 两个滑轨上部之间滑动式设 置有滑板， 滑板位于暖风机的上方， 右侧的清洗池右侧连接有第三电动推杆， 第三电动推杆 位于滑板的下 方， 第三电动推杆的伸缩杆右侧连接有推板， 推板上部与滑板连接 。说　明　书 1/4 页 3 CN 218014487 U 3