(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123207182.4 (22)申请日 2021.12.20 (73)专利权人 苏州英尔捷半导体有限公司 地址 215101 江苏省苏州市工业园区唯亭 双马街2号星华产业园19-2号厂房 (72)发明人 胡建军　 (51)Int.Cl. B08B 3/02(2006.01) B08B 1/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01) H01L 21/67(2006.01) (54)实用新型名称 一种晶圆清洗装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种晶圆清洗装置， 包括 箱体和用于放置晶圆本体的清洗槽， 所述箱体的 外表面开设有清洗口， 所述清洗槽设置在所述清 洗口的内侧， 所述清洗槽的两侧对称焊接有两组 滑块， 所述箱体的底部开设有安装槽， 所述安装 槽内部安装有第一伺服电机， 所述第一伺服电机 的输出端传动连接有丝杆， 所述丝杆的两端均与 所述箱体转动连接， 其中一组所述滑 块与所述丝 杆螺纹连接， 所述清洗槽的内部一侧转动设置有 第一传动辊。 本实用新型通过将晶圆本体放置在 清洗槽内， 利用第一伺服电机带动丝杆转动， 对 清洗槽进行升降， 然后通过喷头喷洒清洗液， 同 时第三伺服电机带动清洗毛刷转动， 从而方便对 晶圆本体的表面进行擦洗 。 权利要求书1页 说明书3页 附图4页 CN 216631792 U 2022.05.31 CN 216631792 U 1.一种晶圆清洗装置， 包括箱体(1)和用于放置晶圆本体(2)的清洗槽(3)， 其特征在 于： 所述箱体(1)的外表 面开设有清洗口(4)， 所述清洗槽(3)设置在所述清洗口(4)的内侧， 所述清洗槽(3)的两侧对称焊接有两组滑块(5)， 所述箱体(1)的底部开设有安装槽(6)， 所 述安装槽(6)内部安装有第一伺服电机(7)， 所述第一伺服电机(7)的输出端传动连接有丝 杆(8)， 所述丝杆(8)的两端均与所述箱体(1)转动连接， 其中一组所述滑块(5)与所述丝杆 (8)螺纹连接， 所述清洗槽(3)的内部一侧转动设置有第一传动 辊(9)， 所述清洗槽(3)的内 部另一侧转动设置有第二传动辊(10)， 所述晶圆本体(2)放置在所述第一传动辊(9)和所述 第二传动辊(10)之间， 所述第一传动辊(9)的一端传动连接有第二伺服电机(11)， 所述第二 伺服电机(11)安装在所述清洗槽(3)的外表 面， 所述箱体(1)的顶部两侧均连通设置有进 水 管(12)， 所述进水管(12)的端部连通设置有喷头(13)， 所述箱体(1)的顶部焊接有支杆 (14)， 所述支杆(14)的底部焊接有支撑板(15)， 所述支撑板(15)上固定安装有第三伺服电 机(16)， 所述第三伺服电机(16)的输出端传动连接有转轴(17)， 所述转轴(17)的另一端 固 定设置有清洗毛刷(18)， 所述转轴(17)的圆周上设置有限位板(19)， 所述转轴(17)与所述 限位板(19)转动连接 。 2.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗装置， 其特征在于： 所述箱体(1)的内部固定设 置有导向杆(20)， 所述导向杆(20)贯穿另一组所述滑块(5)， 且另一组所述滑块(5)与所述 导向杆(20)滑动连接 。 3.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗装置， 其特征在于： 所述清洗槽(3)的底部连通 设置有排水管(21)， 所述排水管(21)上安装有电磁阀(22)， 所述箱体(1)的底部开设有排水 槽(23)。 4.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗装置， 其特征在于： 所述箱体(1)的内部设置有 橡胶密封垫(24)。 5.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗装置， 其特征在于： 一组所述喷头(13)的方向设 置在所述晶圆本体(2)的一面， 另一组所述喷头(13)的方向设置在所述晶圆本体(2)的另一 端。 6.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗装置， 其特征在于： 所述清洗毛刷(18)设置有两 组， 两组所述清洗毛刷(18)分别设置在所述晶圆本体(2)的两侧。 7.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗装置， 其特征在于： 所述清洗槽(3)的端口处焊 接有两组限位杆(25)， 两组所述限位杆(25)分别设置在所述晶圆本体(2)的两侧。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216631792 U 2一种晶圆清洗装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及晶圆加工技 术领域， 具体为 一种晶圆清洗装置 。 背景技术 [0002]晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅 晶片， 其原始材料是硅。 高纯度的多晶硅溶 解后掺入硅晶体晶种， 然后慢慢拉出， 形成圆柱形的单晶硅。 硅晶棒在经过研磨， 抛光， 切片 后， 形成硅晶圆片， 也 就是晶圆。 国内晶圆生产线以8英寸和12英寸 为主。 [0003]目前现有的晶圆清洗装置还存在一些问题： 在晶圆加工后， 不方便对晶圆的表面 进行擦洗， 同时晶圆清洗时， 可能会出现清洗不充分的情况， 导致部分位置清洗不到的情 况。 实用新型内容 [0004]本实用新型的目的在于提供一种晶圆清洗装置， 以解决上述背景技术中提出的问 题。 [0005]为实现上述目的， 本 实用新型提供如下技术方案： 一种晶圆清洗装置， 包括箱体和 用于放置晶圆本体的清洗槽， 所述箱体的外表面开设有清洗口， 所述清洗槽设置在所述清 洗口的内侧， 所述清洗槽的两侧对称 焊接有两组滑块， 所述箱体的底部开设有安装槽， 所述 安装槽内部安装有第一伺服电机， 所述第一伺服电机的输出端传动连接有丝杆， 所述丝杆 的两端均与所述箱体转动连接， 其中一组所述滑块与所述丝杆螺纹连接， 所述清洗槽的内 部一侧转动设置有第一传动辊， 所述清洗槽的内部另一侧 转动设置有第二传动辊， 所述晶 圆本体放置在所述第一传动辊和所述第二传动辊之 间， 所述第一传动辊的一端传动连接有 第二伺服电机， 所述第二伺服电机安装在所述清洗槽的外表面， 所述箱体的顶部两侧均连 通设置有进 水管， 所述进 水管的端部连通设置有喷头， 所述箱体的顶部焊接有支杆， 所述支 杆的底部焊接有支撑板， 所述支撑板上固定安装有第三伺服电机， 所述第三伺服电机的输 出端传动连接有转轴， 所述转轴的另一端固定设置有清洗毛刷， 所述转轴的圆周上设置有 限位板， 所述 转轴与所述限位板转动连接 。 [0006]优选的， 所述箱体的内部固定设置有导向杆， 所述导向杆贯穿另一组所述滑块， 且 另一组所述滑块与所述 导向杆滑动连接 。 [0007]优选的， 所述清洗槽的底部连通设置有排水管， 所述排水管上安装有电磁阀， 所述 箱体的底部开设有排水槽 。 [0008]优选的， 所述箱体的内部设置有橡胶 密封垫。 [0009]优选的， 一组所述喷头 的方向设置在所述晶圆本体的一面， 另一组所述喷头 的方 向设置在所述晶圆本体的另一端。 [0010]优选的， 所述清洗毛刷设置有两组， 两组所述清洗毛刷分别设置在所述晶圆本体 的两侧。 [0011]优选的， 所述清洗槽 的端口处焊接有两组限位杆， 两组所述限位杆分别设置在所说　明　书 1/3 页 3 CN 216631792 U 3