(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123164 413.8 (22)申请日 2021.12.16 (73)专利权人 南亚新材料科技 （江西） 有限公司 地址 341000 江西省吉安市井冈山经济技 术开发区深圳大道 226号 (72)发明人 罗晟宇　何川　李巍　陈永刚　 (74)专利代理 机构 上海科盛知识产权代理有限 公司 312 25 专利代理师 杨元焱 (51)Int.Cl. B05C 9/08(2006.01) B08B 1/02(2006.01) B08B 3/08(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种上胶清洁系统 (57)摘要 本实用新型涉及一种上胶清洁系统， 包括上 胶机和清洁装置； 所述的上胶机包括两根平行设 置的挤压辊(1)， 所述的清洁装置包括毛刷(2)、 溶剂引流组件(3)、 溶剂储槽(4)和 驱动组件； 所 述的毛刷(2)通过溶剂引流组件(3)连通溶剂储 槽(4)并与挤压辊(1)接触， 所述的驱动组件驱动 毛刷(2)沿挤压辊(1)轴线方向运动。 与现有 技术 相比， 本实用新型可以保证上胶过程中挤压辊保 持清洁无异物， 有效保证胶水上胶过程中胶水的 含量和分布均匀性 不受影响。 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 CN 216757021 U 2022.06.17 CN 216757021 U 1.一种上胶清洁系统， 其特 征在于， 包括上胶机和清洁装置； 所述的上胶机包括两根平行设置的挤压辊(1)， 所述的清洁装置包括毛刷(2)、 溶剂引 流组件(3)、 溶剂储槽(4)和驱动组件； 所述的毛刷(2)通过溶剂引流组件(3)连通溶剂储槽(4)并与挤压辊(1)接触， 所述的驱 动组件驱动毛刷(2)沿挤压辊(1)轴线方向运动。 2.根据权利要求1所述的上胶清洁系统， 其特征在于， 所述的溶剂引流组件(3)包括引 流管。 3.根据权利要求1所述的上胶清洁系 统， 其特征在于， 所述的毛刷(2)包括主体部(21) 和设置在主体部(21)上的刷毛(2 2)； 所述的主体部(21)上设有导 流孔， 毛刷(2)通过导 流孔连接溶剂引流组件(3)。 4.根据权利要求3所述的上胶清洁系统， 其特征在于， 所述的导流孔上设置有辅助引流 管(23)， 所述的辅助引流管(23)与溶剂引流组件(3)可拆卸连接 。 5.根据权利要求1所述的上胶清洁系统， 其特征在于， 所述的清洁装置还包括沿挤压辊 (1)轴线方向设置的导向组件(5)， 所述的毛刷(2)连接导向组件(5)。 6.根据权利要求5所述的上胶清洁系统， 其特征在于， 所述的导向组件(5)包括设置在 挤压辊(1)上方的滑轨， 滑轨上滑动设置有滑块， 毛刷(2)通过移动杆(6)连接滑块， 驱动组 件驱动滑块沿滑轨移动。 7.根据权利要求6所述的上胶清洁系统， 其特征在于， 所述的移动杆(6)包括可拆卸连 接的滑块连接杆和毛刷连接杆； 所述的滑块连接杆一端连接滑块， 另一端连接毛刷连接杆； 所述的毛刷连接杆一端连接毛刷(2)， 另一端连接滑块连接杆。 8.根据权利要求1所述的上胶清洁系统， 其特征在于， 所述的上胶机还包括胶槽以及用 于驱动挤压辊(1)转动的电机， 所述的胶槽位于挤压辊(1)下 方。 9.根据权利要求1所述的上胶清洁系统， 其特征在于， 每根所述的挤压辊(1)上均设置 有一个毛刷(2)。 10.根据权利要求1所述的上胶清洁系统， 其特 征在于， 所述的驱动组件 包括伺服电机 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216757021 U 2一种上胶清洁系统 技术领域 [0001]本实用新型 涉及覆铜板生产技 术领域， 具体涉及一种上胶清洁系统。 背景技术 [0002]高频高速CCL是高频高速PCB的核心材料之一。 由高频高速CCL作为基础材料制成 的高频高速P CB广泛应用于通讯电子、 消费电子、 计算机、 汽 车电子、 工业控制、 医疗器械、 国 防、 航天航空等领域。 其中高频覆铜板在5G 的天线系统、 汽车电子的ADAS系统使用明显， 高 速覆铜板在云服务器ID C、 高端路由器等应用较多。 而对于目前高频、 高速等高端 领域材料， 都是要求材料具备极其稳定的电信号的传输和加工性。 因此对于CCL成品覆铜板和PP的所 刷的胶水含量及分布均匀性要求很高， 目前覆铜板行业PP所刷胶水含量和分布性主要靠调 节上胶机台上挤压辊的间隙来实现的， 而挤压辊之 间间隙的精确度以及挤压辊之 间是否有 杂质就直接影响到PP中胶水的含量和分散均匀性， 在每次上胶过程中挤压辊上都会残留大 量的胶水附着， 如果不及时清洁就会凝固从而影响下一次上胶PP的胶水分布和稳定性， 而 高频高速材料PP又大多 是在薄布上刷中高含量的胶水， 所以胶水的分布均匀性直接影响最 终产品性能稳定性。 [0003]目前行业内改善的主 要方法有： [0004]1.在挤压辊两边不断流下溶剂， 但此方法只能简单的清洁挤压辊表面的残余胶 水； [0005]2.通过人工清洁， 在每次上胶后人工及 时用抹布蘸溶剂清洁， 此方法极大的浪费 人力资源， 且有人工失误 风险， 很多死角不能清理干净， 有潜在危险； [0006]3.做出基板后， 经过测 试， 对有异常板进行挑选， 报废处理， 浪费更大且存在较大 的漏检出货风险。 实用新型内容 [0007]本实用新型的目的是提供一种上胶清洁系统， 对挤压辊进行自动清洁。 [0008]本实用新型的目的可以通过以下技术方案来实现： 一种上胶清洁系统， 包括上胶 机和清洁装置； [0009]所述的上胶机包括两根平行设置 的挤压辊， 所述的清洁装置包括毛刷、 溶剂引流 组件、 溶剂储槽和驱动组件； [0010]所述的毛刷通过溶剂引流组件连通溶剂储槽并与挤压辊接触， 所述的驱动组件 驱 动毛刷沿挤压辊轴线方向运动。 [0011]优选地， 所述的溶剂引流组件 包括引流管。 [0012]优选地， 所述的毛刷包括主体部和设置在主体部上的刷毛； [0013]所述的主体部上设有导流孔， 毛刷 通过导流孔连接溶剂引流组件。 所述的导流孔 可对溶剂储槽内的溶剂进行导 流， 便于溶剂流至刷毛上， 进 而流到挤压辊上。 [0014]进一步优选地， 所述的导流孔上设置有辅助引流管， 所述的辅助引流管与溶剂引说　明　书 1/4 页 3 CN 216757021 U 3