(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123280 362.5 (22)申请日 2021.12.24 (73)专利权人 湖州中芯 半导体科技有限公司 地址 313000 浙江省湖州市高新区中横港 路33号2号厂房5号 (72)发明人 刘宏明　林琳　 (74)专利代理 机构 湖州佳灏专利商标代理事务 所(特殊普通 合伙) 33476 专利代理师 黄永兰 (51)Int.Cl. C23C 16/44(2006.01) C30B 35/00(2006.01) C30B 29/04(2006.01) B01D 46/12(2022.01) B01F 25/40(2022.01) (54)实用新型名称 一种CVD金刚石生长设备气体过滤装置 (57)摘要 本实用新型涉CVD金刚石生长设备领域， 尤 其涉及一种CVD金刚石生长设备气体过滤装置， 包括包括真空腔体， 真空腔体的顶端连通有微波 发生器， 其底部固定连接有样品台， 样品台的顶 面中间位置处固定连接有晶种托盘， 真空腔体的 侧壁上连通有进气管， 进气管上连通有气体过滤 装置， 气体过滤装置包括箱体外壳， 箱体外壳的 内部固定连接有曲线状管， 曲线状管的两端 连通 有进气管， 其内部固定连接有过滤板， 能够对反 应气体中的灰尘和水进行彻底 地过滤， 在过滤的 同时也对反应的气体进行了充分地混合， 一举两 得， 最终大大提高了金刚石生长的质量， 同时也 大大提高了金刚石的生长效率。 权利要求书1页 说明书3页 附图3页 CN 216864316 U 2022.07.01 CN 216864316 U 1.一种CVD金刚石生长设备气体过滤装置， 包括真空腔体(1)， 所述真空腔体(1)的顶端 连通有微波发生器(2)， 其底部固定连接有样品台(3)， 所述样品台(3)的顶 面中间位置处固 定连接有晶种托盘(4)， 所述真空腔体(1)的侧壁上连通有进气管(5)， 其特征在于， 所述进 气管(5)上连通有气体过滤装置(6)， 所述气体过滤装置(6)包括箱体外壳(7)， 所述箱体外 壳(7)的内部固定连接有曲线状管(8)， 所述曲线状管(8)的两端连通有所述进气管(5)， 其 内部固定连接有过 滤板(9)。 2.根据权利要求1所述的一种CVD金刚石生长设备气体过滤装置， 其特征在于， 所述过 滤板(9)设置有 若干块， 其固定在所述曲线状管(8)的向上凸起处和向下凸起处。 3.根据权利要求1所述的一种CVD金刚石生长设备气体过滤装置， 其特征在于， 所述过 滤板(9)由吸尘层(10)和复合多层微 孔疏水膜(11)交替构成。 4.根据权利要求1所述的一种CVD金刚石生长设备气体过滤装置， 其特征在于， 所述进 气管(5)包括第一进气管(12)、 第二进气管(13)和第三进气管(14)， 所述第一进气管(12)、 所述第二进气管(13)和所述第三进气管(14)汇总于汇总管(15)， 所述汇总管(15)连通有左 进气管(16)， 所述左进气管(16)连通有所述气体过滤装置(6)的左端， 所述气体过滤装置 (6)的右端连通有右进气管(17)， 所述右进气管(17)连通所述真空腔体(1)。 5.根据权利要求4所述的一种CVD金刚石生长设备气体过滤装置， 其特征在于， 所述左 进气管(16)的右端部和所述右进气管(17)的左端部分别设有外螺纹， 所述箱体外壳(7)的 左侧板和右侧板上设有与所述外 螺纹相适配的螺纹孔。 6.根据权利要求5所述的一种CVD金刚石生长设备气体过滤装置， 其特征在于， 所述曲 线状管(8)的两端固定连接在所述螺纹孔的外周处， 将所述螺纹孔包 含在其内。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216864316 U 2一种CVD金刚石生长设 备气体过滤装 置 技术领域 [0001]本实用新型涉CVD金刚石生长设备领域， 尤其涉及一种CVD金刚石生长设备气体过 滤装置。 背景技术 [0002]CVD金刚石生长设备在生产的过程中需要通入反应气体， 其对反应气体 的要求很 高， 不允许其内掺杂有灰尘和水等杂质， 气体越纯， 金刚石生长的质量就越好， 同时金刚石 的生长需要的反应气 体涉及有多种， 一般为甲烷、 氢气和氮气这三种， 只有当这三种气 体在 生长腔体内发生反应前被充分混合的情况下， 其生产的效果和效率才是最佳 的， 但是现有 的CVD金刚石生长 设备往往对反应气 体中的灰尘和水分往往过滤地不够 彻底而且混合也不 够充分， 这 就导致了金刚石生长的质量比较差， 生长的效率低下。 实用新型内容 [0003](一)解决的技 术问题 [0004]针对现有技术的不足， 本实用新型目的在于提供一种CVD金刚石生长设备气体过 滤装置， 解决了现有技术中存在的问题， 能够 对反应气体中的灰尘和水进 行彻底地过滤， 在 过滤的同时也对反应的气体进行了充分地混合， 一举两得， 最终大大提高了金刚石生长的 质量， 同时也大 大提高了金刚石的生长效率。 [0005](二)技术方案 [0006]为实现上述目的， 本实用新型提供如下技术方案： 一种CVD金刚石生长设备气体过 滤装置， 包括真空腔体， 真空腔体的顶端连通有微波发生器， 其底部固定连接有样品台， 样 品台的顶面中间位置处固定连接有晶种托盘， 真空腔体的侧 壁上连通有进气管， 进气管上 连通有气 体过滤装置， 气体过滤装置包括箱体外壳， 箱体外壳的内部固定连接有曲线状管， 曲线状管的两端连通有 进气管， 其内部固定连接有过 滤板。 [0007]优选的， 过 滤板设置有 若干块， 其固定在曲线状管的向上凸起处和向下凸起处。 [0008]优选的， 过 滤板由吸尘层和复合多层微 孔疏水膜交替构成。 [0009]优选的， 进气管包括第一进气管、 第二进气管和第三进气管， 第一进气管、 第二进 气管和第三进气管汇总于汇总 管， 汇总管连通有左进气管， 左进气管连通有气体过滤装置 的左端， 气体过 滤装置的右端连通有右进气管， 右进气管 连通真空腔体。 [0010]优选的， 左进气管的右端部和右进气管的左端部分别设有外螺纹， 箱体外壳的左 侧板和右侧板上设有与外 螺纹相适配的螺纹孔。 [0011]优选的， 曲线状管的两端固定连接在螺纹孔的外周处， 将螺纹孔包 含在其内。 [0012](三)有益效果 [0013]本实用新型通过曲线状管以及在曲线状管 中设置过滤板， 能够对反应气体中的灰 尘和水进 行彻底地过滤， 在过滤的同时也对反应的气 体进行了充分地混合， 一举两得， 最 终 大大提高了金刚石生长的质量， 同时也大 大提高了金刚石的生长效率。说　明　书 1/3 页 3 CN 216864316 U 3