(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202111617114.7 (22)申请日 2021.12.27 (71)申请人 浙江光特 科技有限公司 地址 312000 浙江省绍兴 市越城区群贤路 与中兴大道东 南角一楼107室 (72)发明人 廖世容　叶瑾琳　沈琪良　 (74)专利代理 机构 南京普睿益思知识产权代理 事务所(普通 合伙) 32475 代理人 张丽丽 (51)Int.Cl. B08B 1/02(2006.01) B08B 3/10(2006.01) B08B 13/00(2006.01) H01L 21/67(2006.01) (54)发明名称 一种晶圆清洗装置 (57)摘要 本发明公开了一种晶圆清洗装置， 包括： 一 支架； 三个轴， 平行安装在所述支架上， 其中两个 所述轴位于另一所述轴的两侧， 并位于另一所述 轴的上方； 至少一个所述轴能够改变与其它两个 所述轴中至少一个的间距； 三个所述轴上均设有 用于与晶圆相配合的限位槽。 将晶圆置于三个轴 的限位槽内， 支 撑晶圆， 方便清洗。 三个轴之间的 间距能够改变， 如此， 便于放置不同直径的晶圆， 适应性好。 权利要求书1页 说明书5页 附图7页 CN 114345778 A 2022.04.15 CN 114345778 A 1.一种晶圆清洗装置， 其特 征在于， 包括： 一支架； 三个轴， 平行安装在所述支架上， 其中两个所述轴位于另一所述轴的两侧， 并位于另一 所述轴的上方； 至少一个所述轴能够改变与其它两个所述轴中至少一个的间距； 三个所述 轴上均设有用于与晶圆相配合的限位槽 。 2.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 位于上方的两个所述轴与所述支 架活动连接； 所述装置还 包括固定件， 所述固定件用于将位于上 方的两个所述轴固定 。 3.根据权利要求2所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述支架上设有两个用于供位于 上方的两个所述轴移动的移动槽； 所述支 架上设有第一螺纹孔； 所述固定件 包括： 两个固定板， 与位于上方的两个所述轴相对应， 所述固定板上设有与所述轴相配合的 限位孔； 一连接板， 其上设有 多个与所述第一螺纹孔相配合的第二螺纹孔； 一螺栓， 与所述第一螺纹孔、 第二螺纹孔相配合； 两个螺柱， 安装在所述连接 板上； 两个连接套， 分别安装在两个所述固定 板上， 并分别与两个所述螺柱螺纹连接 。 4.根据权利要求3所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述连接套与 所述固定板转动连 接。 5.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述 限位槽为多个， 沿所述轴的 长度方向间隔布置 。 6.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 该装置还包括转动机构； 其中， 位 于下方的所述轴与所述支 架转动连接， 并与所述 转动机构传动连接 。 7.根据权利要求6所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 该装置至少一个擦拭单元， 所述 擦拭单元包括： 一支撑板； 两个第一擦拭件， 用于布置 于所述晶圆的两侧， 均 与所述支撑 板连接。 8.根据权利要求6所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述擦拭单元还包括第二擦拭 件， 位于两个所述第一擦拭件， 与所述支撑 板连接， 用于与所述晶圆的周向表面贴合。 9.根据权利要求7 所述的晶圆清洗装置， 其特 征在于， 该装置还 包括： 一安装架； 一连接件， 与所述支撑 板连接， 且与所述 安装架活动连接 。 10.根据权利要求9所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 该装置还包括紧固部， 该紧固部 用于将所述连接件限定 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 114345778 A 2一种晶圆清洗装 置 技术领域 [0001]本发明涉及晶圆处 理技术领域， 尤其涉及一种晶圆清洗装置 。 背景技术 [0002]目前， 随着半导体制造工艺技术的不断发展， 器件的特征尺寸不断减少， 纳 米尺度 的缺陷对晶圆造成的影响逐渐增 加， 对于晶圆清洗已然成为 提高晶圆良率的关键 。 [0003]在中国专利申请号： CN202110939158.5中公开了一种晶圆清洗机构， 用于对晶圆 进行清洗， 所述晶圆的表面贴附有承载膜， 包括： 绷膜环、 清洗槽及清洗支架； 其中， 所述清 洗支架用于固定所述绷膜环， 所述清洗槽位于所述绷膜环下方， 所述承载膜贴附于所述绷 膜环上， 所述晶圆位于所述绷膜环的内环面内且所述晶圆的边缘与所述绷膜环的内环面之 间具有间隙， 所述晶圆朝向所述清洗 槽并浸入所述清洗 槽内的清洗液中。 [0004]在中国专利申请号： CN201910989773.X中公开了一种晶圆清洗装置， 所述晶圆清 洗装置包括： 旋转室； 旋转组件， 设置于所述旋转室内， 所述旋转组件包括旋转台， 所述旋转 台上设置有吸盘， 用于吸住晶圆以使 所述晶圆随着所述旋转台的旋转而旋转； 静电感测器， 用于感测所述晶圆上是否存在静电电荷； 软X射线电离器， 设置于所述晶圆的上方， 在所述 静电感测器感测到所述晶圆上存在静电电荷时， 向所述晶圆照射软X射线以将所述旋转室 内的空气离 子化进而消除所述晶圆上的静电 电荷。 [0005]上述技术方案都不能适用对不同尺寸的 晶圆清洗， 鉴于此， 故提出本申请。 发明内容 [0006]为解决背景技术中存在的至少一个方面的技术问题， 本发明提出一种晶圆清洗装 置， 适应性 好。 [0007]本发明提出的一种晶圆清洗装置， 包括： [0008]一支架； [0009]三个轴， 平行安装在所述支架上， 其中两个所述轴位于另一所述轴的两侧， 并位于 另一所述轴的上方； 至少一个所述轴能够改变与其它两个所述轴中至少一个的间距； 三个 所述轴上均设有用于与晶圆相配合的限位槽 。 [0010]优选地， 位于上 方的两个所述轴与所述支 架活动连接； [0011]所述装置还 包括固定件， 所述固定件用于将位于上 方的两个所述轴固定 。 [0012]优选地， 所述支架上设有两个用于供位于上方的两个所述轴移动的移动槽； 所述 支架上设有第一螺纹孔； [0013]所述固定件 包括： [0014]两个固定板， 与位于上方的两个所述轴相对应， 所述固定板上设有与所述轴相配 合的限位 孔； [0015]一连接板， 其上设有 多个与所述第一螺纹孔相配合的第二螺纹孔； [0016]一螺栓， 与所述第一螺纹孔、 第二螺纹孔相配合；说　明　书 1/5 页 3 CN 114345778 A 3