(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210182976.X (22)申请日 2022.02.25 (71)申请人 威高 （苏州） 医疗器 械研究院有限公 司 地址 215163 江苏省苏州市高新区科灵路 88号 (72)发明人 张超　黄宝福　 (74)专利代理 机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 专利代理师 刘珂 (51)Int.Cl. G01N 21/64(2006.01) G01N 21/01(2006.01) (54)发明名称 一种荧光检测系统 (57)摘要 本申请公开了一种荧光检测系统， 涉及荧光 检测领域。 本申请所提供的荧光检测系统， 包括： 激发光源、 透镜、 用于放置样品的待检区域、 荧光 成像系统， 还包括： 平面反射装置； 激发光源、 透 镜、 平面反射装置、 荧光成像系统、 待检区域依次 放置， 且共光轴； 平面反射装置关于光轴对称放 置； 待检区域接收平面反射装置反射的光来激发 待检区域放置的样品产生荧光； 荧光成像系统通 过荧光对待检区域放置的样品进行荧光成像。 该 系统中， 平面反射装置关于光轴对称放置， 将激 发光源发出的光束分为多束关于光轴对称分布 的光路， 并将光反射至待检区域， 从而在待检区 域形成均匀的光斑， 解决了传统的离轴倾斜照明 光照不均匀的问题， 提高了荧 光检测的准确性。 权利要求书2页 说明书11页 附图4页 CN 114544575 A 2022.05.27 CN 114544575 A 1.一种荧光检测系统， 包括： 激发光源、 透镜、 用于放置样品的待检区域、 荧光成像系 统， 其特征在于， 还 包括： 平面反射装置； 所述激发光源、 所述透镜、 所述平面反射装置、 所述荧光成像系统、 所述待检区域依次 放置， 且共光轴； 所述平面反射装置关于所述光轴对称放置， 用于形成多束对称的光路以便将所述激发 光源发出的光束分为多 束对称光， 并将光反射至所述待检区域； 所述待检区域用于接收所述平面反射装置反射的光以便激发所述待检区域放置的所 述样品产生 荧光； 所述荧光成像系统用于获取所述待检区域放置的所述样品产生的所述荧光并通过所 述荧光对所述待检区域 放置的所述样品进行荧 光成像。 2.根据权利要求1所述的荧光检测系统， 其特征在于， 所述激发光源为面光源或点光 源； 其中， 所述面光源与所述透镜的距离大于所述透镜的焦距； 所述点光源位于所述透镜的 焦点处。 3.根据权利要求2所述的荧光检测系统， 其特征在于， 所述平面反射装置包括： 第一平 面反射镜、 第二平 面反射镜； 其中所述第一平面反射镜的个数、 所述第二平面反射镜的个数 相同， 均至少为两个， 且为偶数； 各所述第一平面反射镜关于所述光轴对称放置， 且在朝向所述荧光成像系统的情况 下， 各所述第一平面反射镜与所述光轴的夹角为锐角， 用于形成多束对称光路以便将所述 激发光源发出的光束分为多 束对称光； 各所述第二平面反射镜关于所述光轴 对称放置， 用于将对应的所述第 一平面反射镜反 射的光反射至所述待检区域。 4.根据权利要求3所述的荧光检测系统， 其特征在于， 所述第 一平面反射镜的个数为两 个， 包括平面反射镜一以及平 面反射镜二； 所述第二平面反射镜的个数为两个， 包括平面反 射镜三以及平面反射镜四； 所述平面反射镜一与所述平面反射镜二用于形成两束对称光路 以便将所述面光源发 出的光束分为两束关于所述 光轴对称的光； 所述平面反射镜三用于接收所述平面反射镜一反射的光， 并反射所述平面反射镜一反 射的光至所述待检区域； 所述平面反射镜四用于接收所述平面反射镜二反射的光； 并反射所述平面反射镜二反 射的光至所述待检区域。 5.根据权利要求4所述的荧光检测系统， 其特征在于， 在朝向所述荧光成像系统 的情况 下， 所述平面反射镜一、 所述平面反射镜二分别与所述光轴的夹角为45 °； 所述平面反射镜 三、 所述平面反射镜四分别与所述 光轴的夹角在5 °至40°之间。 6.根据权利要求4所述的荧光检测系统， 其特征在于， 所述平面反射镜三反射的光束、 所述平面反射镜四反射的光束分别与所述 光轴的夹角在10 °至80°之间。 7.根据权利要求5所述的荧光检测系统， 其特征在于， 所述平面反射镜三、 所述平面反 射镜四分别与所述 光轴的夹角在15 °至25°之间。 8.根据权利要求6所述的荧光检测系统， 其特征在于， 所述平面反射镜三反射的光束、 所述平面反射镜四反射的光束分别与所述 光轴的夹角在40 °至60°之间。权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114544575 A 29.根据权利要求3所述的荧光检测系统， 其特征在于， 所述第一平面反射镜、 所述第二 平面反射镜均为平面镀铝膜反射镜 。 10.根据权利要求2所述的荧光检测系统， 其特征在于， 在所述激发光源为面光源的情 况下， 所述荧光检测系统还 包括： 匀光隧道； 所述面光源位于所述匀光隧道的入射端， 用于对所述 面光源进行匀光处 理。 11.根据权利要求1至10任意一项所述的荧光检测系统， 其特征在于， 还包括： 激发滤光 片、 发射滤光片； 所述激发滤光片位于所述激发光源与所述透 镜之间， 且 共光轴； 所述发射滤光片位于所述 荧光成像系统的成像镜 头与所述待检区域之间， 且 共光轴； 所述激发滤光片对应的波长与所述发射滤光片对应的波长相匹配。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114544575 A 3