(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210507643.X (22)申请日 2022.05.10 (71)申请人 深圳市元甪科技有限公司 地址 518000 广东省深圳市南 山区南山街 道荔湾社区东滨路4433号兆邦基科技 中心A座1808 (72)发明人 杨云杰　 (74)专利代理 机构 深圳市诺正鑫泽知识产权代 理有限公司 4 4689 专利代理师 颜燕红 (51)Int.Cl. G06T 11/00(2006.01) G06V 10/40(2022.01) G06V 10/80(2022.01) G06V 10/82(2022.01)G06N 3/04(2006.01) G06N 3/08(2006.01) (54)发明名称 多频电阻抗层析成像图像的重建方法、 装 置、 设备及 介质 (57)摘要 本发明实施例公开了一种多频电阻抗层析 成像图像的重建方法、 装置、 设备及介质， 其中方 法包括： 将所述初始多 频电阻抗层析成像图像和 所述掩膜 图像输入预设的图像重建模型进行多 频电阻抗层析成像图像的重建， 得到所述目标对 象的所述目标部位对应的目标多频电阻抗层析 成像图像。 通过引入掩膜图像提供成像对象 的几 何结构信息， 实现利用初始多频电阻抗层析成像 图像本身的空间和频率相关性进行图像重建， 直 接从多频电阻抗层析成像的多频测量数据中同 时预测不同频率下的多个电导率变化的空间分 布图像， 重建图像的质量更高， 图像重建的效率 更高， 图像的几何结构更加精准、 泛化性更 强， 使 本申请能适应更多的应用场景。 权利要求书2页 说明书13页 附图2页 CN 115115726 A 2022.09.27 CN 115115726 A 1.一种多频电阻抗层析成像图像的重建方法， 所述方法包括： 获取目标对象的目标部位的初始多频电阻抗层析成像图像及掩膜图像； 将所述初始多频电阻抗层析成像图像和所述掩膜图像输入预设的图像重建模型进行 多频电阻抗层析成像图像的重 建， 得到所述目标对象的所述目标部位对应的目标多频电阻 抗层析成像图像。 2.根据权利要求1所述的多频电阻抗层析成像图像的重建方法， 其特征在于， 所述将所 述初始多频电阻抗层析成像图像和所述掩膜图像输入预设的图像重建模型进行多频电阻 抗层析成像图像的重建， 得到所述目标对象的所述目标部位对应的目标多频电阻抗层析成 像图像的步骤， 包括： 将所述初始多频电阻抗层析成像图像输入所述图像重建模型的特征融合单元进行特 征融合， 得到第一特 征数据； 将所述第一特征数据和所述掩膜图像输入所述图像重建模型的特征提取单元进行特 征提取， 得到第二特 征数据； 将所述第二特征数据输入所述图像重建模型的输出单元进行多频电阻抗层析成像图 像的重建， 得到所述目标多频电阻抗层析成像图像。 3.根据权利要求2所述的多频电阻抗层析成像图像的重建方法， 其特征在于， 所述特征 提取单元包括： 至少 两个特征提取子单元， 所述将所述第一特征数据和所述掩膜图像输入 所述图像重建模型的特 征提取单元进行特征提取， 得到第二特 征数据的步骤， 包括： 将第i个单元输入特征数据输入第i个所述特征提取子单元进行特征提取， 得到第i个 单元输出特征数据， 其中， i 为大于0的整数， 并且i小于或等于所述特 征提取子单 元的数量； 将所有所述单 元输出特征数据作为所述第二特 征数据； 其中， 若i等于1， 则将所述第一特征数据和所述掩膜图像作为第i个所述单元输入特征 数据； 若i大于1， 则将第i ‑1个所述单元输出特征数据和所述掩膜图像作为第i个所述单元 输入特征数据。 4.根据权利要求3所述的多频电阻抗层析成像图像的重建方法， 其特征在于， 每个所述 特征提取子单 元依次包括至少两个特 征提取层； 所述特征提取层依次包括： 图卷积层和门控时间卷积层； 所述门控时间卷积层包括： 第一卷积层和第二卷积层， 所述第一卷积层和所述第二卷 积层并联设置， 所述第一卷积层依次包括： 第一扩张卷积层和 第一激活层， 所述第二卷积层 依次包括： 第二扩张卷积层和第二激活层， 所述第一激活层 采用Tanh激活函数， 所述第二激 活层采用Sigmo id激活函数； 第k‑1个所述特征提取子单元的输出特征和第k个所述特征提取子单元中的所述门控 时间卷积层的输出特征作为第k个所述特征提取子单元的输出特征， 其中， k为大于0的整 数， 并且k小于或等于所述特征提取子单元的数量， 若k为1， 则第k ‑1个所述特征提取子单元 的输出特征为空值； 第k‑1个所述特征提取子单元的输出特征和所述掩膜图像作为第k个所述特征提取子 单元的输入特 征。 5.根据权利要求2所述的多频电阻抗层析成像图像的重建方法， 其特征在于， 所述输出 单元依次包括： 第一线性变换层和第二线性变换层；权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115115726 A 2所述第一线性变换层是采用Relu激活函数的全连接层或线性层； 所述第二线性变换层是采用Relu激活函数的全连接层或线性层； 所述第一线性变换层的通道数量是所述初始多频电阻抗层析成像图像对应的频率数 量的一半； 所述第二线性变换层的通道数量与所述初始多频电阻抗层析成像图像对应的频率数 量相同。 6.根据权利要求1所述的多频电阻抗层析成像图像的重建方法， 其特征在于， 所述获取 目标对象的目标部位的初始多频电阻抗层析成像图像及掩膜图像的步骤， 包括： 获取所述目标对象的所述目标部位对应的多频边界电压测量值集， 其中， 所述多频边 界电压测量 值集是多个预设频率下的边界电压测量 值集； 在预设的重建图像坐标系下， 采用一步高斯牛顿求解器， 对所述多频边界电压测量值 集进行多频电阻抗层析成像图像 计算， 得到所述初始多频电阻抗层析成像图像； 获取所述目标对象的所述目标部位对应的辅助模态成像图像； 对所述辅助模态成像图像依次进行图像配准、 降采样及预设的成像对象的二值化掩膜 生成， 得到所述掩膜图像， 其中， 所述图像配准用于将所述辅助模态成像图像转换到所述重 建图像坐标系下。 7.根据权利要求6所述的多频电阻抗层析成像图像的重建方法， 其特征在于， 所述辅助 模态成像图像的数量为多个， 不同的所述辅助模态成像图像的采集技术不同， 所述对所述 辅助模态成像图像依 次进行图像配准、 降采样及预设的成像对 象的二值化掩膜生成， 得到 所述掩膜图像的步骤 包括： 对每个所述辅助模态成像图像依次进行图像配准、 降采样及预设的成像对象的二值化 掩膜生成， 得到单模态掩膜； 对各个所述单模态掩膜进行相同像素的加权求和， 得到所述掩膜图像。 8.一种多频电阻抗层析成像图像的重建装置， 其特 征在于， 所述装置包括： 数据获取模块， 用于获取目标对象的目标部位的初始多频电阻抗层析成像图像及掩膜 图像； 目标多频电阻抗层析成像图像重建模块， 用于将所述初始多频电阻抗层析成像图像和 所述掩膜图像输入预设的图像重建模型进 行多频电阻抗层析成像图像的重 建， 得到所述目 标对象的所述目标部位对应的目标多频电阻抗层析成像图像。 9.一种计算机可读存储介质， 存储有计算机程序， 所述计算机程序被处理器执行时， 使 得所述处理器执行如权利要求1至7中任一项所述方法的步骤。 10.一种计算机设备， 包括存储器和 处理器， 所述存储器存储有计算机程序， 所述计算 机程序被所述处理器执行时， 使得所述处理器执行如权利要求1至7中任一项 所述方法的步 骤。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115115726 A 3