(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210826251.X (22)申请日 2022.07.14 (71)申请人 合肥清溢光电有限公司 地址 230000 安徽省合肥市新站区谷河路 与通淮路交口东北角 (72)发明人 王亚腾　 (74)专利代理 机构 合肥律众知识产权代理有限 公司 34147 专利代理师 殷娟 (51)Int.Cl. G01N 21/3504(2014.01) G01N 21/01(2006.01) (54)发明名称 一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量 设备 (57)摘要 本发明公开了一种掩膜版镀膜LCVD载气浓 度调节与测量设备， 包括载气气路D、 调节气路C、 工作气路B和测量气路E； 载气气路D和调节气路C 并接， 工作气路B和测量气路E并接且均连接在载 气气路D和调节气路C的输出端； 所述测量气路E 包括测量阀Z3和连接在测量阀Z3输出端的气体 浓度测量装置5， 本发明的掩膜版镀膜LCVD载气 浓度调节与测量设备， 利用朗伯比尔定律对 载气 中Cr(CO)6含量进行检测， 及时地了解LCVD载气 浓度及载气中Cr(CO)6含量， 当载气浓度及载气 中Cr(CO)6含量降低或者升高时， 可以通过调整 气体配比使气体浓度在规格范围内， 保证了沉积 的薄膜致密性。 权利要求书1页 说明书7页 附图1页 CN 115165787 A 2022.10.11 CN 115165787 A 1.一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备， 其特征在于， 包括并接且均与保护 气罐(1)的出口连通的载气气路(D)和调节气路(C)， 还包括工作气路(B)和测量气路(E)； 所 述工作气路(B)和 测量气路(E)并接且均连接在载气 气路(D)和调节气路(C)的输出端； 所述载气气路(D)包括与保护气罐(1)的出口连接的载气流量计(F1)和连接在载气流 量计(F1)后部的含铬粉罐(2)； 所述调节气路(C)包括与保护气罐(1)的出口连接的调节气流 量计(F2)； 所述工作气路(B)包括镀膜阀(Z1)和与镀膜阀(Z1)出口连接的掩膜版镀膜装置(4)； 镀 膜阀(Z1)的进口通过第一三通(B1)与含铬粉 罐(2)的出口和调节气路(C)输出端 连接； 所述 调节气路(C)输出端通过节流阀(Z2)与第一 三通(B1)连接； 所述测量气路(E)包括测量阀(Z3)和连接在测量阀(Z3)输出端的气体浓度测量装置 (5)； 所述测量阀(Z3)的进口通过第二三通(B2)与载气气路(D)和调节气路(C)的输出端连 接； 所述气体浓度测量装置包括一红外光源、 光电倍增管检测器、 由所述红外光源发射红 外光的测量光路以及设置在测量光路中且被红外光穿过的气 体管； 所述红外光源和光电倍 增管检测器分别设置在所述气体管的两侧， 所述气体管上设置有测量气入口和测量气出 口， 经过测量阀(Z3)的测量气由所述测量气入口进入气体管， 红外光源发射出的红外光被 气体管内的测 量气吸收后， 剩余部分穿过所述气体管被所述光电倍增管检测器检测， 光电 倍增管检测器检测出透射光 强； 通过将红外光源发出的红外光的入射光 强与透射光 强做比 值， 获得被测量气吸光度； 最后依据 朗伯比尔定律， 根据被测量气吸光度计算出测量气浓 度。 2.根据权利要求1所述的掩膜版镀膜LCVD载气浓度调 节与测量设备， 其特征在于， 所述 测量光路包括第一测量光路和 第二测量光路， 气 体管包括分别设置在第一测量光路和 第二 测量光路中的第一气体管和第二气体管， 所述第一气体管和第二气体管参数相同； 所述红外光源后部依次设置有单色器、 斩波器和第一半透半反镜， 第一半透半反镜的 透光路为第一测量 光路， 第一半透半反镜的反光路为第二测量 光路； 第一测量光路中， 所述第一气体管设置在第一半透半反镜的透光路上， 第一气体管后 部设置有第一平面镜， 第一平面镜的反光路上设置有第二半透半反镜， 所述光电倍增管检 测器设置在第二半透半反镜的反光路上， 第二半透 半反镜将第一平面镜的反射光反射至光 电倍增管检测器上； 第二测量光路中， 第一半透半反镜的反射光路上设置有第二平面镜， 第二气体管设置 在第二平面镜的反射光路上， 第二半透半反镜同时位于第二气体管 的透光路上， 第二半透 半反镜透过第二气体管的透射 光至光电倍增管检测器。 3.根据权利要求2所述的掩膜版镀膜LCVD载气浓度调 节与测量设备， 其特征在于， 所述 第一测量光路和 第二测量光路中分别设置有第一遮光罩和 第二遮光罩， 所述第一遮光罩和 第二遮光 罩分别设置在第一气体管和第二气体管 前部。 4.根据权利要求1所述的掩膜版镀膜LCVD载气浓度调 节与测量设备， 其特征在于， 所述 测量阀(Z3)的进口通过第二三通(B2)与调节气流量计(F2)出口和节流阀(Z2)远离第一三 通(B1)端连接 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115165787 A 2一种掩膜版镀膜L CVD载气浓度调节与测量设 备 技术领域 [0001]本发明属于掩膜版镀膜设备领域， 更具体的说涉及一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度 调节与测量设备。 背景技术 [0002]掩膜版也叫Mask或者光罩， 作为一种图形的载体， 通过显影蚀刻等工艺形成所需 的图形， 再通过曝光机将图形转移到显示基板上。 在 掩膜版表 面一般镀有一层100nm厚度的 铬(Cr)膜， 由于工艺原因， 部 分Cr层会缺 失， 产生少Cr 缺陷， 少Cr 位置会导致曝光时漏光， 造 成产品在使用时不需要曝光的地方产生曝光。 一般地， 上述这种缺陷需要是使用LCVD (Laserchemic alvapordeposition， 激光化学气相沉积)设备来修补。 LCVD修补空白缺陷一 般是先通过加热修补材料六羰基铬(Cr(CO)6)， 这种物质一般在40 °会升华成气体， 再通过 氩气(Ar)作 为载体和保护气， 将含有Cr(CO)6的载气(载气中含有升华的Cr(CO)6和氩气)送 到需要修补的缺陷处， 经一束特定波长的激光照射后， Cr(CO)6气体分子发生光降解和热降 解反应， 形成一层10 0nm左右厚度的Cr 膜覆盖在缺陷处， 从而实现对空白缺陷的修复。 [0003]由于在Cr膜形成过程中， 一些工艺参数如 激光功率、 反应气体温度、 反应气体流量 等条件非常敏感， 参数的不稳定会导致形成的Cr膜不够致密， 造成Cr膜轻微透光或者粘附 力不佳脱落。 其中含Cr(CO)6载气对薄膜的形成非常敏感， 目前常规的LCVD设备气路中只 有 流量计监测载气流量， 并不能对载气中Cr(CO)6含量进行监测， 当粉罐 中的Cr粉量随使用减 少后， 载气中Cr(CO)6含量降低时， 不能及时发现， 影响LCVD的沉积效果。 发明内容 [0004]本发明的目的在于提供一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备， 利用朗伯 比尔定律对载气中Cr(CO)6含量进行检测， 及时地了解LCVD载气浓度 及载气中Cr(CO)6含量， 当载气浓度及载气中Cr(CO)6含量降低或者升高时， 可以通过调整气体配比使气体浓度在 规格范围内， 保证了沉积的薄膜致密性， 不会发生透光和脱落影响产品 品质。 [0005]本发明技术方案一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备， 包括并接且均与 保护气罐(1)的出口连通的载气气路(D)和调节气路(C)， 还包括工作气路(B)和测量气路 (E)； 所述工作气路(B)和测量气路(E)并接且均连接在载气气路(D)和调节气路(C)的输出 端； [0006]所述载气气路(D)包括与保护气罐(1)的出口连接的载气流量计(F1)和 连接在载 气流量计(F1)后部的含铬粉罐(2)； [0007]所述调节气路(C)包括与保护气罐(1)的出口连接的调节气流 量计(F2)； [0008]所述工作气路(B)包括镀膜阀(Z1)和与镀膜阀(Z1)出口连接的掩膜版镀膜装置 (4)； 镀膜阀(Z1)的进口通过第一三通(B 1)与含铬粉罐(2)的出口和调节气路(C)输出端连 接； 所述调节气路(C)输出端通过节流阀(Z2)与第一 三通(B1)连接； [0009]所述测量气路(E)包括测量阀(Z3)和连接在测量阀(Z3)输出端的气体浓度测量装说　明　书 1/7 页 3 CN 115165787 A 3