(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210927015.7 (22)申请日 2022.08.03 (71)申请人 威高 （苏州） 医疗器 械研究院有限公 司 地址 215163 江苏省苏州市高新区科灵路 88号 (72)发明人 张超　徐金喆　 (74)专利代理 机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 专利代理师 牛亭亭 (51)Int.Cl. G01N 21/01(2006.01) G01N 21/64(2006.01) C12Q 1/686(2018.01) (54)发明名称 一种成像系统 (57)摘要 本发明涉及光学系统领域， 具体公开了一种 成像系统， 包括光源装置、 匀光装置、 投影光学系 统和成像光学系统， 匀光装置设置于光源装置的 出光光路上， 使得光源装置出射的激发光通过匀 光装置后光能量均匀。 匀光装置的出光端和待检 区域位于投影光学系统的为物像共轭关系的位 置， 投影光学系统将匀光装置的出光端成像到待 检区域， 使得匀光装置出射的激发光照射到样 品， 成像光学系统用于获取样品在激发光照射下 产生的光， 并基于获取的光进行成像。 由于通过 投影光学系统将匀光装置的出光端成像到待检 区域， 而匀光装置的出光端出射的激发光能量均 匀， 因此使得投射到待检区域的激发光能量均 匀。 权利要求书1页 说明书7页 附图5页 CN 115266590 A 2022.11.01 CN 115266590 A 1.一种成像系统， 其特征在于， 包括光源装置、 匀光装置、 投影光学系统和成像光学系 统， 所述匀 光装置设置于所述光源装置的出光光路上， 用于使得所述光源装置出射的激发 光通过所述匀光装置后光能量均匀； 所述匀光装置的出光端和待检区域位于所述投影光学系统 的为物像共轭关系的位置， 所述投影光学系统用于将所述匀光装置的出光端成像到所述待检区域， 使得所述匀光装置 出射的所述激发光照射到样品， 所述成像光学系统用于获取所述样品在所述激发光照射下 产生的光， 并基于获取的光进行成像。 2.根据权利要求1所述的成像系统， 其特征在于， 所述投影光学系统包括第 一透镜组和 第二透镜组， 所述第一透镜组的后焦距与所述第二透镜组的前焦距的比值， 和所述匀 光装 置的出光端的尺寸与所述待检区域的尺寸的比值相等。 3.根据权利要求2所述的成像系统， 其特征在于， 所述匀光装置的出光端位于所述第 一 透镜组的焦平面上， 所述待检区域 位于所述第二透 镜组的焦平面上。 4.根据权利要求1所述的成像系统， 其特征在于， 所述待检区域和所述成像光学系统的 成像装置的靶面位于所述成像光学系统的为物像共轭关系的位置， 所述成像光学系统还用 于将所述待检区域成像到所述成像光学系统的成像装置的靶面。 5.根据权利要求4所述的成像系统， 其特征在于， 所述投影光学系统包括第 一透镜组和 第二透镜组， 所述成像光学系统包括所述第二透镜组和第三透镜组， 所述成像系统还包括 二向色镜； 所述二向色镜位于所述第 一透镜组和所述第 二透镜组之间光路上， 且位于所述第 二透 镜组和所述第三透 镜组之间光路上， 用于将所述样品产生的光和所述激发光分离 。 6.根据权利要求5所述的成像系统， 其特征在于， 所述第 一透镜组 的后焦距与 所述第二 透镜组的前焦距的比值， 和所述匀光装置的出光端的尺寸与所述待检区域的尺寸的比值相 等， 以及所述第二透镜组的前焦距与所述第三透镜组的后焦距的比值， 大于等于所述待检 区域的尺寸与所述成像光学系统的成像装置的靶面尺寸的比值。 7.根据权利要求5所述的成像系统， 其特征在于， 所述第 一透镜组 的焦距和所述第 三透 镜组的焦距相同， 所述第一透镜组到所述第二透镜组的光程和所述第三透镜组到所述第二 透镜组的光 程一致。 8.根据权利要求5所述的成像系统， 其特征在于， 所述匀光装置的出光端位于所述第 一 透镜组的焦平面上， 所述待检区域位于所述第二透镜组的焦平面上， 所述成像光学系统的 成像装置的靶面 位于所述第三透 镜组的焦平面上。 9.根据权利要求4所述的成像系统， 其特征在于， 满足以下关系式： I1＝I0·A， 其中， I1 表示所述成像光学系统的靶面获得的能量分布， I0表示所述匀光装置的出光端的能量分 布， A表示放置在所述待检区域的所述样品在激发光照射下产生 光的基因分布。 10.根据权利要求1 ‑9任一项所述的成像系统， 其特征在于， 所述匀光装置包括匀光隧 道， 使得所述激发光进入所述匀光隧道后在所述匀光隧道的内表面经过多次反射而使得所 述激发光能量均匀， 或者， 所述匀光装置为匀光 棒。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115266590 A 2一种成像系统 技术领域 [0001]本发明涉及光学系统领域， 特别是 涉及一种成像系统。 背景技术 [0002]荧光检测是聚合酶链式反应(PCR)中常用的技术手段， 用于检测PCR反应中目标 DNA的含量。 [0003]荧光检测可以分为点信号检测和面信号检测， 点信号检测采用光电倍增管等光电 探测器， 探测灵敏度高， 然而由于是单点探测， 通常需要逐点扫描， 因此其检测速度较低。 相 比于点信号检测， 面信号检测为成像检测， 即通过光学成像的手段一次获取全部待检信息， 大大缩减了检测时间。 并且， 随着面阵探测器工艺的成熟， 以及一些新型成像芯片的研究和 发展， 面阵探测器的灵敏度不断提高， 因此面信号 荧光检测的优势越发明显 。 [0004]然而， 现有的面信号检测方法存在激发光照度不均匀， 激发光照度会影响产生的 荧光信号， 因此激发光照度不均匀会对荧光信号的强度引入误差， 从而会影响最终检测结 果。 发明内容 [0005]本发明的目的是提供一种成像系统， 能够 提高投射到待检区域的激发光能量的均 匀性。 [0006]为实现上述目的， 本发明提供如下技 术方案： [0007]一种成像系统， 包括光源装置、 匀光装置、 投影光学系统和成像光学系统， 所述匀 光装置设置于所述光源装置的出光光路上， 用于使得所述光源装置出射的激发光通过所述 匀光装置后光能量均匀； [0008]所述匀光装置的出光端和待检区域位于所述投影光学系统的为物像共轭关系的 位置， 所述投影光学系统用于将所述匀 光装置的出光端成像到所述待检区域， 使得所述匀 光装置出射的所述激发光照射到样品， 所述成像光学系统用于获取所述样品在所述激发光 照射下产生的光， 并基于获取的光进行成像。 [0009]优选地， 所述投影光学系统包括第一透镜组和第二透镜组， 所述第一透镜组的后 焦距与所述第二透镜组的前焦距的比值， 和所述匀光装置的出光端的尺寸与所述待检区域 的尺寸的比值相等。 [0010]优选地， 所述匀光装置 的出光端位于所述第一透镜组的焦平面上， 所述待检区域 位于所述第二透 镜组的焦平面上。 [0011]优选地， 所述待检区域和所述成像光学系统的成像装置的靶面位于所述成像光学 系统的为物像共轭关系的位置， 所述成像光学系统还用于将所述待检区域成像到所述成像 光学系统的成像装置的靶面。 [0012]优选地， 所述投影光学系统包括第一透镜组和第二透镜组， 所述成像光学系统包 括所述第二透 镜组和第三透 镜组， 所述成像系统还 包括二向色镜；说　明　书 1/7 页 3 CN 115266590 A 3