(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211210838.4 (22)申请日 2022.09.30 (71)申请人 浦江县实一水晶机 械厂 地址 321000 浙江省金华市浦江县岩头镇 官山头23号 (72)发明人 于志敏　 (74)专利代理 机构 绍兴市寅越专利代理事务所 (普通合伙) 33285 专利代理师 陈泽元 (51)Int.Cl. B24B 19/00(2006.01) B24B 27/00(2006.01) B24B 29/02(2006.01) B24B 41/06(2012.01) B24B 47/12(2006.01)B24B 47/16(2006.01) (54)发明名称 一种水钻、 平 底钻平磨抛光 一体机 (57)摘要 本发明提供一种水钻、 平底钻平磨抛光一体 机， 用于磨抛附着在工艺板 上的水钻、 平底钻， 包 括机架、 转盘、 旋转机构以及若干组极坐标联动 机构、 模具底板、 磨筒、 驱动机构， 所述转盘转动 连接在机架的中心处， 所述旋转机构用于驱动转 盘转动， 若干磨筒转动连接在机架的外围且呈环 形布置， 所述驱动机构用于带动磨筒旋转， 若干 组极坐标联动机构呈环状设置在转盘上且绕其 中心等角度分布。 磨筒以立式的形式， 随着大转 盘的极角的角度变化， 每个机头上模板的极径配 合转盘极角的角度变化而变化， 模板按照极坐标 在平面内移动， 使模板上的工艺板与磨筒始终为 直线接触， 直线接触使模板上的各个水钻、 平底 钻为同一平面， 磨抛出的水钻、 平底钻质量较为 统一。 权利要求书1页 说明书4页 附图8页 CN 115446699 A 2022.12.09 CN 115446699 A 1.一种水钻、 平底钻平磨抛光一体机， 用于磨抛附着在工艺板(8)上的水钻， 其特征在 于： 包括机架(1)、 转盘(2)、 旋转机构(3)以及若干组极坐标联动机构(4)、 模具底板(5)、 磨 筒(6)、 驱动机构(7)， 所述转盘(2)转动 连接在机架(1)的中心处， 所述旋转机构(3)用于驱 动转盘(2)转动， 若干磨筒(6)立式转动连接在机架(1)的外围且 呈环形布置， 所述 驱动机构 (7)用于带动 磨筒(6)旋转， 若干组极坐标联动机构(4)呈环状设置在转盘(2)上且绕其中心 等角度分布， 所述极坐标联动机构(4)包括固定底座(41)、 横移组件(42)、 横移座(43)以及 竖移组件(44)， 所述固定底座(41)固定在转盘(2)上， 所述横移组件(42)设置在固定底座 (41)上且可带动横移座(43)沿着转盘(2)的径向方 向往复式移动， 所述竖移组件(44)设置 在横移座(43)上且可带动模具底板(5)竖向往复式移动， 所述工艺板(8)套设在模具底板 (5)上且与外围的磨筒(6)相对应。 2.根据权利要求1所述的一种水钻、 平底钻平磨抛光一体机， 其特征在于： 所述工艺板 (8)和模具底板(5)均为方形， 所述模 具底板(5)上设置有用于套设固定工艺板(8)的方形模 板(10)。 3.根据权利要求2所述的一种水钻、 平底钻平磨抛光一体机， 其特征在于： 所述工艺板 (8)包括方形面板(81)以及沿着方形面板(81)外围设置的固定翻边(83)， 所述方形面板 (81)通过固定翻边(83)套在模板(10)上， 所述方形面板(81)上开设有致密的用于嵌入 水钻 的水钻嵌入孔(82)。 4.根据权利要求1所述的一种水钻、 平底钻平磨抛光一体机， 其特征在于： 所述旋转机 构(3)为环齿(31)、 齿轮(32)与旋转电机(33)， 所述环齿(31)固定在机架(1)上且与转盘(2) 同圆心， 所述齿轮(32)枢接在转盘(2)上且与环齿(31)啮合， 所述旋转电机(33)设置在转盘 (2)上且与齿轮(32)相连。 5.根据权利要求1所述的一种水钻、 平底钻平磨抛光一体机， 其特征在于： 所述旋转机 构(3)为蜗杆(34)、 蜗轮(35)以及蜗杆电机(36)， 所述蜗杆(34)的两端通过蜗杆支架横向转 动设置在机架(1)上， 所述蜗杆电机(36)与蜗杆(34)同轴相连， 所述蜗轮(35)设置在转盘 (2)的底部且与其同圆心 布置， 所述蜗杆(34)与蜗轮(3 5)啮合。 6.根据权利要求1所述的一种水钻、 平底钻平磨抛光一体机， 其特征在于： 所述磨筒(6) 的数量至少比极坐标联动机构(4)、 模具底板(5)少一个， 所述机架(1)上位于缺少的磨筒 (6)工位处为上 料口(9)。 7.根据权利要求1所述的一种水钻、 平底钻平磨抛光一体机， 其特征在于： 所述驱动机 构(7)包括驱动电机(71)、 驱动皮带轮(72)、 从动皮带轮(73)、 磨 筒架(75)， 所述磨筒架(75) 固定在机架(1)上， 所述磨筒(6)的上下两端通过轴承转动连接在磨筒架(75)上， 所述从动 皮带轮(73)与磨筒(6)同轴相连， 所述 驱动电机(71)固定在磨筒架(75)上， 所述 驱动皮带轮 (72)与驱动电机(71)的输出轴同轴相连， 所述 驱动皮带轮(72)与从动皮带轮(73)通过皮带 (74)传动连接 。 8.根据权利要求1所述的一种水钻、 平底钻平磨抛光一体机， 其特征在于： 所述横移组 件(42)和竖移组件(4 4)为丝杆导轨模组。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115446699 A 2一种水钻、 平底钻平磨抛光一体机 技术领域 [0001]本发明涉及水钻、 平底钻磨抛技术领域， 具体为一种水钻、 平底钻平磨抛光一体 机。 背景技术 [0002]水钻、 平底钻是一种俗称， 其主要成分是水晶玻璃， 是将人造水晶玻璃切割成钻石 刻面得到的一种饰品辅件， 这种材质因为较经济， 同时视觉效果上又有钻石般的夺目感觉， 因此很受人们的欢迎 。 [0003]传统的水钻、 平底钻磨抛加工步骤基本都为： 上料、 粘胶、 打磨、 抛光、 换面、 再打 磨、 再抛光、 下料。 而打磨、 抛光市场上常常采用平面磨抛的方式， 如中国专利公开号为 CN211388190U的一种新型旋转八工位水晶加工平 面磨抛机， 包括 “机架， 所述机架上安装有 承载机身， 所述承载机身上面通过回转支承安装有工位旋转体， 所述工位旋转体上安装有 机头， 所述承载机身上面安装有磨抛盘， 所述磨抛盘上连接有电机， 所述机头上安装有套 盘……” [0004]但是， 诸如上述的平面磨抛方式存在多个问题， 第一， 这种方式主要是将上下两个 圆盘端面相互接触， 上下两个圆盘其中一个为高速旋转的磨抛盘， 另一个圆盘为装着被磨 抛水钻的夹具， 作低速回转， 两者相对运动这样来完成一个工位的磨抛， 由于是圆盘端面相 互接触， 水钻磨削时各点的线速度不一致， 使磨抛出的水钻质量很难完全统一。 第二， 水钻 粘着的面板为方形， 而 水钻磨面为圆形， 这就导致方形面板的四个角上无法排布水钻， 造成 面板四个角的资源浪费， 产量低。 第三， 上下两个圆盘端面相互接触的接触面大， 摩擦力较 大， 比较费电。 发明内容 [0005](一)解决的技 术问题 [0006]针对现有技术的不足， 本发明提供了一种水钻、 平底钻平磨抛光一体机， 解决了上 述背景技 术中提出的问题。 [0007](二)技术方案 [0008]为实现以上目的， 本 发明通过以下技术方案予以实现： 一种水钻、 平底钻平磨抛光 一体机， 用于磨抛附着在工艺板上的水钻、 平底钻， 包括机架、 转盘、 旋转机构以及若干组极 坐标联动机构、 模 具底板、 磨筒、 驱动机构， 所述转盘转动连接在机架的中心处， 所述旋转机 构用于驱动转盘转动， 若干磨筒立式转动连接在机架的外 围且呈环形布置， 所述驱动机构 用于带动磨筒旋转， 若干组极坐标联动机构呈环状设置在转盘上且绕其中心等角度分布， 所述极坐标联动机构包括固定底座、 横移组件、 横移 座以及竖移组件， 所述固定底座固定在 转盘上， 所述横移组件设置在固定底座上且可带动横移座沿着转盘的径向方向往复式移 动， 所述竖移组件设置在横移座上且可带动模具底板竖向往复式移动， 所述工艺板套设在 模具底板上且与外围的磨筒相对应。说　明　书 1/4 页 3 CN 115446699 A 3